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九江電廠管道清洗的行業(yè)須知「在線咨詢」

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發(fā)布時間:2021-10-28 13:10  

不銹鋼酸洗鈍化的注意事項5.1酸洗鈍化的前處理

不銹鋼工件酸洗鈍化前如有表面污物等,應通過機械清洗,然后除油脫脂。如果酸洗液與鈍化液不能去除油脂,表面存在油脂會影響酸洗鈍化的質量,為此除油脫脂不能省略,可以采用堿液、乳化劑、溶劑與蒸汽等進行。

5.2酸洗液及沖洗水中Cl-的控制

某些不銹鋼酸洗液或酸洗膏采用加入鹽酸、,三氯化鐵與氯化鈉等含氯離子的侵蝕介質作為主劑或助劑去除表面氧化層,除油脂用三等含氯溶劑,從防止應力腐蝕來說是不太適宜的。此外,對初步沖洗用水可采用工業(yè)水,但對至終清洗用水要求嚴格控制鹵化物含量。通常采用去離子水。如石化奧氏體不銹鋼壓力容器進行水壓試驗用水,控制C1-含量不超過25mg/L,如無法達到這一要求,在水中可加入處理,使其達到要求,C1-含量超標,會破壞不銹鋼的鈍化膜,是點蝕、縫隙腐蝕、應力腐蝕等的根源。

5.3酸洗鈍化操作中的工藝控制

溶液單獨用于清理游離鐵和其它金屬污物是有效的,但對清理氧化鐵皮,厚的腐蝕產物,回火膜等無效,一般應采用HNO3 HF溶液,為了方便與操作安全,可用氟化物代替HF[2]。單獨HNO3溶液可不加緩蝕劑,但HNO3 HF酸洗時,需要加Lan-826。使用HNO3 HF酸洗,為防止腐蝕,濃度應保持5:1的比例。溫度應低于49℃,如過,HF會揮發(fā)。









形成水垢的第三個原因:

隨著溫度的升高,某些鹽的溶解度逐漸降低,然后沉淀。自來水和污垢的雜物是由于長期使用導致熱水器產生的微生物而形成的。沉積物,雜質和污垢會粘在水箱和真空管的壁上,形成溶解的水垢。

結垢不僅使家用熱水器,鍋爐和其他設備的導熱性極差,浪費能源(電能或),給家庭經濟造成負擔,還會使熱交換器過熱,縮短使用壽命甚至發(fā)生事故;水垢會堵塞水管并導致水流。,甚至更換水管,導致裝修損壞等后果!

因此,為了防止上述問題的發(fā)生,請快來清洗管道!








鍋爐的清洗辦法

鍋爐的清洗辦法可分為人工打掃、機械辦法和化學清洗三大類。

①.人工打掃: 運用身段瘦小的工人進入鍋爐鏟刷污垢或用榔頭擊打,使水垢松動墜落。這是一種早的清洗辦法,如今已多用;

②. 機械辦法:運用帶金屬軟管和電動的除垢器等刮隋;

③. 化學清洗: 運用化學藥劑去除鍋爐中污垢的辦法。化學清洗是如今鍋爐清洗中應用為普遍的一種辦法。

1.32鍋爐清洗的條件

《低壓鍋爐化學清洗導則》規(guī)矩,關于額定出口蒸汽壓力小于等于2.45MPa(25kgf/cm2)的蒸汽鍋爐和熱水鍋爐,當契合下列狀況之一時,才可停止化學清洗。

1. 鍋爐受熱面被水垢掩蓋80%以上,而且平均水垢厚度抵達或逾越下列數(shù)值:無過熱器的鍋爐 1mm; 有過熱器的鍋爐 0.5mm; 熱水鍋爐 1mm。

2. 鍋爐受熱面有顯著的油污或鐵銹,而且每臺鍋爐酸洗時間距離應不少于兩年。 《火力發(fā)電廠鍋爐化學清洗導則》(SDl35—86)規(guī)矩,直流爐和出口蒸汽壓力大于等于9.8MPa的汽包爐,在投產前有必要停止化學清洗;壓力在9.8MPa以下的汽包爐,除銹蝕嚴峻外,普通可不停止酸洗,但有必要堿煮。關于工作中的鍋爐,SDl35—86規(guī)矩,當水冷壁管內的污垢量或鍋爐化學清洗的距離時間逾越表18-26中的極限值時,就應組織化學清洗。鍋爐化學清洗的距離時間,還可依據(jù)工作水質的異常狀況和大修時鍋爐內的檢查狀況,作恰當改動。以重油和自然氣為燃料的鍋爐和液態(tài)排渣爐,鍋爐的污垢極限招認化學清洗。普通只清洗鍋爐本體。蒸汽流通局部能否停止化學清洗,應按理論狀況決議。








化學清洗和安全知識

1 化學清洗

在半導體器件工藝實驗中?;瘜W清洗是指去除吸附在半導體、金屬材料和器具表面的各種有害雜質或油漬。清洗方法是利用各種化學試劑和有機助熔劑,使吸附在被清洗物體表面的雜質和油類發(fā)生化學反應溶解,或輔以超聲波、加熱、真空等物理措施,將雜質除去。從要清潔的物體。表面解吸(或解吸),然后用大量高純冷熱去離子水沖洗,得到干凈的表面。

1.1 化學清洗的重要性

工藝實驗中的每個實驗都有化學清洗的問題?;瘜W清洗的質量對實驗結果有嚴重影響。如果過程處理不當,將得不到實驗結果或實驗結果很差。因此,了解化學清洗的作用和原理對工藝實驗具有重要意義。眾所周知,半導體的重要特性之一是對雜質非常敏感。只要有百萬分之一甚至少量的雜質,就會對半導體的物理性能產生影響。方法。各種功能半導體器件的制造。但也正是因為這個特點,給半導體器件的工藝實驗帶來了麻煩和困難。用于清潔的化學試劑、生產工具和水可能成為有害雜質的來源。即使是干凈的半導體晶圓更長時間暴露在空氣中也會引入明顯的污染物?;瘜W清洗是去除有害雜質,保持硅片表面清潔。










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