真空鍍膜機(jī)廠家報(bào)價(jià)「多圖」

磁控濺射鍍膜設(shè)備鍍膜優(yōu)勢(shì)

磁控濺射鍍膜機(jī)有很多種類型，有中頻的，也有直流的。在生活中應(yīng)用也是非常的廣泛，如：手提電腦、手機(jī)殼、電話、無(wú)線通訊、試聽電子、工具、表殼、手機(jī)殼、五金等。它的優(yōu)勢(shì)也是非常的凸顯.

磁控濺射鍍膜設(shè)備配置了等離子體處理裝置，磁控濺射陰極和電阻蒸發(fā)裝置等，設(shè)備沉積速率快，鍍層附著力好，鍍層細(xì)膩致密，表面光潔度高，且均勻性一致性良好;該機(jī)實(shí)現(xiàn)鍍膜工藝全自動(dòng)化控制，裝載量大，工作可靠，合格率高，生產(chǎn)成本低，綠色環(huán)保。該設(shè)備主要廣泛應(yīng)用于電腦殼、手機(jī)殼、家用電器等行業(yè)，可鍍制金屬膜、合金膜、復(fù)合膜層、透明(半透明)膜、不導(dǎo)電膜、EMI電磁屏蔽膜等。

磁控濺射鍍膜機(jī)將磁控濺射技術(shù)和真空蒸發(fā)技術(shù)結(jié)合在同一真空鍍膜設(shè)備里，既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子賤出并部分離化沉積在基材成膜，同時(shí)又可利用在真空中以電阻加熱將金屬鍍料熔融并讓其氣化再沉積在基材上成膜，增加了設(shè)備的用途和靈活性。該設(shè)備應(yīng)用于手機(jī)殼等塑料表面金屬化，應(yīng)用于不導(dǎo)電膜和電磁屏蔽膜沉積。

柔性電子卷繞真空鍍膜設(shè)備

HCFLC系列卷繞鍍膜設(shè)備為各種各樣的柔性和可穿戴電子產(chǎn)品，傳感器，RFID標(biāo)簽，智能玻璃，智能包裝等提供了一種非常有競(jìng)爭(zhēng)力和成本效益高的薄膜涂層技術(shù)。高質(zhì)量低電阻率銅或TCO層和結(jié)構(gòu)的應(yīng)用，在滿足當(dāng)今和未來(lái)市場(chǎng)需求的同時(shí)，成功地彌合了生產(chǎn)率和多功能性之間的差距。

HCFLC系列是生產(chǎn)和研發(fā)的良好選擇。幾乎無(wú)限的可能性，在安排多達(dá)六組可旋轉(zhuǎn)的旋轉(zhuǎn)器和機(jī)器的能力，應(yīng)用大量的現(xiàn)場(chǎng)測(cè)量傳感器，使機(jī)器能夠在生產(chǎn)環(huán)境中生產(chǎn)，同時(shí)又是非常靈活和靈活的，當(dāng)作為一個(gè)研發(fā)機(jī)器使用。

這也使得該機(jī)成為諸如ITO膜、柔性印刷電路板（FPCB）、LOW-E或智能玻璃等應(yīng)用的?？尚D(zhuǎn)磁控管，涂層寬度為2000毫米，可能的襯底輥直徑為500毫米，是高生產(chǎn)率的基礎(chǔ)。

此外，相鄰工藝段之間的可選氣體分離允許在一個(gè)過(guò)程中沉積各種各樣的金屬和電介質(zhì)層。

除了能夠在非反應(yīng)濺射工藝的同時(shí)運(yùn)行反應(yīng)濺射工藝外，HCFLC系列還可以配備各種原位傳感器，用于連續(xù)、準(zhǔn)確地監(jiān)測(cè)所需的物理層特性，如層電阻率、反射率或透射比。

pvd鍍膜設(shè)備鍍出的膜層出現(xiàn)異樣,是什么原因

之前有少數(shù)客戶會(huì)咨詢我們，為什么PVD鍍膜設(shè)備鍍出來(lái)的膜，偶爾會(huì)出現(xiàn)異樣的情況，問(wèn)具體是什么原因。經(jīng)過(guò)我們技術(shù)人員上門檢查排查，原因各有不同，下面真空小編為大家講解真空鍍膜不良解析。

隨著消費(fèi)水平的提升，人們對(duì)產(chǎn)品外觀要求也越來(lái)越更高，PVD鍍膜的應(yīng)用也越來(lái)越廣泛。PVD鍍膜設(shè)備也獲得越來(lái)越多的制造業(yè)廠家認(rèn)可和喜愛(ài)，它的優(yōu)勢(shì)也是顯而易見(jiàn)的。大家都知道機(jī)器，真空鍍膜是把金屬或者金屬氧化物變成氣態(tài)的分子或原子使其沉積在鍍件表面形成鍍層的一種技術(shù)。和傳統(tǒng)的電鍍技術(shù)相比污染更小、能耗更低，所需的成本較低，裝飾效果和金屬感都比較強(qiáng)。但是大家也都知道它的缺點(diǎn)，PVD電鍍工藝不良率高、生產(chǎn)效率低、膜后不穩(wěn)定以使顏色穩(wěn)定性差等，這是整個(gè)行業(yè)的痛點(diǎn)。隨著后期技術(shù)不斷的發(fā)展，環(huán)保要求門檻不斷提高，傳統(tǒng)電鍍逐漸將被替代及消費(fèi)者對(duì)產(chǎn)品外觀的提高，真空鍍膜技術(shù)在未來(lái)會(huì)有更廣闊的發(fā)展前景。

真空鍍膜設(shè)備需要的環(huán)境要求

真空鍍膜設(shè)備需要的環(huán)境要求 真空鍍膜設(shè)備要在真空條件下工作，因此該設(shè)備要滿足真空對(duì)環(huán)境的要求。真空對(duì)環(huán)境的要求，一般包括真空設(shè)備對(duì)所處實(shí)驗(yàn)室（或車間）的溫度、空氣中的微粒等周圍環(huán)境的要求，和對(duì)處于真空狀態(tài)或真空中的零件或表面要求兩個(gè)方面。 這兩個(gè)方面是有密切聯(lián)系的。周圍環(huán)境的好壞直接影響真空設(shè)備的正常使用；而真空設(shè)備的真空室或裝入里面的零件是否清洗，又直接影響設(shè)備的性能。如果空氣中含有大量的水蒸氣和灰塵，在真空室沒(méi)有經(jīng)過(guò)清洗的情況下用油封機(jī)械泵去抽氣，要達(dá)到預(yù)期的真空度很難的。眾所周，油封式機(jī)械泵不宜抽除對(duì)金屬有腐蝕性、對(duì)真空油其反應(yīng)的以含有顆粒塵埃的氣體。水蒸氣為可凝性氣體，當(dāng)大量抽除可凝性氣體時(shí)，對(duì)泵油的污染會(huì)更加嚴(yán)重，結(jié)果使泵的極限真空下降，破壞了泵的抽氣性能。