微弧氧化生產(chǎn)線供應(yīng)按需定制 日照微弧氧化工藝

微弧氧化手電解質(zhì)溶液及其組分的影響

       微弧氧化電解液是獲到合格膜層的技術(shù)關(guān)鍵。微弧氧化是輕金屬在其特定的電解液及電場(chǎng)條件下，原位生長(zhǎng)陶瓷膜的新技術(shù)。不同的電解液成分及氧化工藝參數(shù)，所得膜層的性質(zhì)也不同。微弧氧化電解液多采用含有一定金屬或非金屬氧化物堿性鹽溶液（如硅酸鹽、磷酸鹽、硼酸鹽等），其在溶液中的存在形式較好是膠體狀態(tài)。溶液的pH范圍一般在9～13之間。根據(jù)膜層性質(zhì)的需要，可添加一些有機(jī)或無機(jī)鹽類作為輔助添加劑。在相同的微弧電解電壓下，電解質(zhì)濃度越大，成膜速度就越快，溶液溫度上升越慢，反之，成膜速度較慢，溶液溫度上升較快。微弧氧化生產(chǎn)線、微弧氧化電源

       微弧氧化技術(shù)是近年來發(fā)展起來的一種鋁、鎂合金表面陶瓷化處理技術(shù)，它是鋁、鎂合金在電解液中通過高壓電場(chǎng)作用下的放電火花燒結(jié)，在其表面生成一層由α-Al2O3 和γ-Al2O3為主要成分并與基體形成冶金結(jié)合的氧化鋁（或氧化鎂）陶瓷層，氧化鋁（或氧化鎂）陶瓷層的高硬度、高阻抗和穩(wěn)定性滿足鋁、鎂合金防海水腐蝕和高溫?zé)嵛g以及改善其耐磨性等。膜層硬度高（維氏硬度可由幾百至三千左右）膜層與基體為冶金結(jié)合、厚度在幾微米至幾百微米之間。

       微弧氧化電流密度的選定還必須與其他工藝條件和性能要求相結(jié)合。但是普通的低溫釉工藝，燒結(jié)溫度高達(dá)900度，鋁鎂金屬的熔點(diǎn)是600多度，因此嚴(yán)重制約了微弧氧化后處理的發(fā)展，對(duì)終端消費(fèi)品外殼的客戶來說，彩色是必備的選擇。這些工藝條件包括電解液組成和溫度、基材成分、電源模式等。微弧氧化突破傳統(tǒng)陽極氧化的限制，利用電極間施加很高的電壓使浸在電解液中的電極表面發(fā)生微弧放電現(xiàn)象，電壓的高低是影響微弧氧化的主要因素之一。實(shí)驗(yàn)表明，不同的溶液有不同的電壓工作范圍，如果電壓過低，陶瓷層生長(zhǎng)速度較小，陶瓷層較薄，顏色較淺，硬度也較低;工作電壓過高，工件易出現(xiàn)燒蝕現(xiàn)象，生成的陶瓷層致密性較差，厚度不鈞勻。