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鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀儀器特點(diǎn)
1. 分析流程全自動(dòng)化控制,實(shí)現(xiàn)軟件點(diǎn)火、氣路智能控制功能;
2. 輸出功率自動(dòng)匹配調(diào)諧,功率參數(shù)程序設(shè)定;
3. 優(yōu)良的光學(xué)系統(tǒng),先進(jìn)的控制系統(tǒng),保證峰位定位準(zhǔn)確,信背比優(yōu)良;
4. 較小的基體效應(yīng);
5. 測(cè)量范圍寬,超微量到常量的分析,動(dòng)態(tài)線性范圍5—6個(gè)數(shù)量級(jí);
6. 檢出限低,大多數(shù)元素的檢出限可達(dá)ppb級(jí);
7. 良好的測(cè)量精度,穩(wěn)定性相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD≤1.5%(5ppm),優(yōu)于國(guó)家A等級(jí)標(biāo)準(zhǔn)(JJG768-2005);
8.
Rf輸出功率的范圍750-1500W,輸出功率穩(wěn)定性小于0.1%;
9. 光電倍增管的負(fù)高壓可在0-1000V范圍內(nèi)獨(dú)立可調(diào),可根據(jù)不同元素的不同譜線單獨(dú)設(shè)置條件,和全譜儀器比較有更好的檢出限;
10. 納克儀器采用高屏蔽和良好接地保證操作者的安全;
11. 精度較高的光室恒溫系統(tǒng),保證儀器優(yōu)良的長(zhǎng)短期精度;
12. 多通道蠕動(dòng)泵進(jìn)樣,保證儀器進(jìn)樣均勻,工作穩(wěn)定;
13. 使用鈸銅彈片和特殊處理的屏蔽玻璃,在吸收紫外線同時(shí)使儀器輻射小于2V/m(JJG768-2005規(guī)定小于10V/m)。
14. 具有較高的譜線分辨率,能分出Hg313.154和313.183nm雙線譜線,能分出鐵的四重峰。
15. 人性化的軟件設(shè)計(jì),操作方便,終身免費(fèi)升級(jí)。功能強(qiáng)大、友好的人機(jī)界面分析軟件,可在測(cè)定過(guò)程中,進(jìn)行數(shù)據(jù)處理,方法編制和結(jié)果分析,是真正的多任務(wù)工作軟件;該軟件數(shù)據(jù)處理功能強(qiáng)大,提供了多種方法,如內(nèi)標(biāo)校正、IECS和QC監(jiān)測(cè)功能等,可獲得的背景扣除點(diǎn)以消除干擾;對(duì)輸出數(shù)據(jù)可直接打印或自動(dòng)生成Excel格式的結(jié)果報(bào)告。
鋼研納克Plasma 1000 單道掃描ICP光譜儀
1. 光路形式:Czerny-Turner型 單道掃描ICP光譜儀
2. 光室恒溫:(30±0.2)℃
3. 光柵類(lèi)型:離子刻蝕全息平面光柵
4. 分辨率:不大于0.007nm
5. 刻線密度:3600g/mm
6. 高頻發(fā)生器震蕩頻率:40.68MHz 功率穩(wěn)定度:0.1%(長(zhǎng)期25℃典型值)
7. 震蕩類(lèi)型:自激式
8. 進(jìn)樣方式:蠕動(dòng)泵進(jìn)樣
配有多種霧室(旋流霧室、雙筒霧室和耐氫1氟酸霧室)
9. 霧1化器:同心霧化1器
10. 重復(fù)性:RSD ≤1.0%
11. 穩(wěn)定性:RSD ≤2.0%(2小時(shí))
12. 冷卻氣:10-20L/min
13. 輔助氣:0-1.5 L/min
14. 載氣:0.4-1L/min
15. 尺寸:1550mm×759mm×1340mm(長(zhǎng)×寬×高)
16. 重量:240公斤
鋼研納克 Plasma2000 全譜ICP光譜儀
Plasma2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀是鋼研納克在首批“國(guó)家重大科學(xué)儀器設(shè)備開(kāi)發(fā)專(zhuān)項(xiàng)”支持下研發(fā)的二維全譜高分辨ICP光譜儀,是國(guó)產(chǎn)全譜ICP光譜儀革命性產(chǎn)品,曾斬獲中國(guó)儀器儀表行業(yè)協(xié)會(huì)“自主金獎(jiǎng)”等一系列榮譽(yù),在業(yè)界獲得廣泛的好評(píng)。美觀精致的高顏值工業(yè)設(shè)計(jì),優(yōu)異穩(wěn)定的測(cè)試性能源于納克近四十年ICP行業(yè)經(jīng)驗(yàn)。Plasma2000擁有
1、中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),徑向觀測(cè),具有穩(wěn)健的檢測(cè)能力。
2、 有效穩(wěn)定的自激式固態(tài)射頻發(fā)生器,體積小巧,匹配速度快,確保儀器的精度較高運(yùn)行及優(yōu)異的長(zhǎng)期穩(wěn)定性。
3、 高速面陣CCD采集技術(shù),單次曝光獲取全部譜線信息,真正實(shí)現(xiàn)“全譜直讀”。
4、 功能強(qiáng)大的軟件系統(tǒng),簡(jiǎn)化分析方法的開(kāi)發(fā)過(guò)程,為用戶量身打造簡(jiǎn)潔、舒適的操作體驗(yàn)。
可廣泛應(yīng)用于冶金、地質(zhì)、材料、環(huán)境、食品、石油、化工、生物、水質(zhì)等各領(lǐng)域的元素分析。
Plasma 2000型ICP-OES測(cè)定污泥中鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅
鋼研納克
隨著城市污水處理量的增加,處理過(guò)程中產(chǎn)生的污泥總量也在不斷上升。污泥中除了含有豐富的有機(jī)物,還含有很多難以降解的金屬元素,如果處理不當(dāng)會(huì)造成更為嚴(yán)重的二次污染。因此對(duì)污泥中金屬元素含量的監(jiān)測(cè)尤為重要。本文采用微波消解的前處理方法,使用Plasma 2000型全譜電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀,建立了污泥中鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅6種元素測(cè)量方法,加標(biāo)回收率在93.4% - 106.6%之間,方法可靠,適用于污泥中金屬元素的測(cè)定。
實(shí)驗(yàn)過(guò)程
1
儀器特點(diǎn)
觀測(cè)方式:徑向觀測(cè)
分光系統(tǒng):中階梯光柵與棱鏡交叉色散結(jié)構(gòu),全譜瞬態(tài)直讀
檢測(cè)器:大面積背照式CCD芯片,高紫外檢出效率,寬動(dòng)態(tài)范圍
光源:固態(tài)射頻發(fā)生器,小體積
2
儀器參數(shù)
表1 Plasma 2000工作條件
3
實(shí)驗(yàn)方法
稱(chēng)取一定量污泥樣品,加入一定比例的混酸,使用微波消解儀消解。待樣品冷卻后取出,定容至100mL容量瓶待測(cè)。
4
分析譜線
表2 Plasma 2000譜線選擇(nm)
5
標(biāo)準(zhǔn)曲線
Al、Ca、Cu、Fe、Mg、Zn標(biāo)準(zhǔn)溶液(國(guó)家鋼鐵材料測(cè)試中心,1000 μg/mL)配制曲線濃度如表3 ,線性相關(guān)系數(shù)大于0.999。
表3 標(biāo)準(zhǔn)曲線濃度(μg/mL)
6
測(cè)定結(jié)果
在實(shí)際樣品中加入被測(cè)元素,其加標(biāo)回收率93.4%-106.6%為之間,滿足定量要求。
表4 實(shí)際樣品分析結(jié)果(%)
結(jié)論
本方法采用Plasma 2000電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀測(cè)定污水處理廠中污泥中重金屬元素,加標(biāo)回收率介于93.4%-106.6%之間,適用于污泥中鋁、鈣、銅、鐵、鎂、鋅等元素的檢測(cè)。