豐派輝光離子滲氮電話「多圖」

湖北豐熱科技有限公司（原武漢離子熱處理研究所），專業(yè)制造輝光離子滲氮爐的高新技術企業(yè)；是集研發(fā)、生產(chǎn)、銷售安裝輝光離子滲氮爐，并為用戶提供成套的離子滲氮工藝技術服務。

離子滲氮爐是將被處理的工件放置在真空容器中，在輝光放電條件下進行滲氮。離子滲氮爐是將被處理的工件放置在真空容器中，在輝光放電條件下進行滲氮。離子滲氮爐包括爐體、真空系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、測溫系統(tǒng)及控制系統(tǒng)所組成。

一種化學熱處理爐，尤其涉及一種新型多功能輝光離子滲氮爐。該輝光離子滲氮爐包括內(nèi)隔熱屏，在內(nèi)隔熱屏內(nèi)壁上裝有發(fā)熱體，發(fā)熱體與電極間采用螺栓聯(lián)接，發(fā)熱體與內(nèi)壁由陶瓷絕緣體隔離絕緣，絕緣體由螺栓固定在隔熱屏內(nèi)壁上。

雙極性脈沖中頻靶電源一般帶孿生靶或雙靶運行。兩個靶的工作電壓極性相反同時又不斷互換極性，電壓極性為負時的磁控靶發(fā)生濺射，極性為正時的那個磁控靶不產(chǎn)生濺射。由于是在次大氣壓條件下的輝光放電，處理環(huán)境的氣氛濃度高，電子和離子的能量可達10eV以上。??由于陰陽極間電場正負極性來回變化，使電子路徑延長，與工作氣體碰撞次數(shù)增加，故單個磁控靶承載同樣功率(其它真空環(huán)境條件相同)時，選用雙極脈沖中頻靶電源比用純直流靶電源和脈沖直流中頻靶電源時，工作氣體的離化幾率和靶材的沉積速率均要高一些。??磁控靶陰極電壓極性為負時，其單脈沖氣體放電應與直流氣體放電伏-安特性曲線異常輝光放電段及之前段的變化規(guī)律(趨勢)相符。??

次大氣壓下輝光放電的視覺特征呈現(xiàn)均勻的霧狀放電；放電時電極兩端的電壓低而功率密度大；處理紡織品和碳纖維等材料時不會出現(xiàn)擊穿和燃燒并且處理溫度接近室溫。次大氣壓輝光放電技術目前可用于低溫材料、生物材料、異型材料的表面親水處理和表面接枝、表面聚合、金屬滲氮、冶金、表面催化、化學合成等工藝。由于是在次大氣壓條件下的輝光放電，處理環(huán)境的氣氛濃度高，電子和離子的能量可達10eV以上。根據(jù)10ns暴光的ICCD拍攝的放電圖像，Radu小組發(fā)現(xiàn)，在大氣壓惰性氣體He、Ne、Ar、Krypton的DBD間隙中，可以實現(xiàn)輝光放電。材料批處理的效率要高于低氣壓輝光放電10倍以上。 可處理金屬、非金屬、（碳）纖維、金屬纖維、微粒、粉末等。