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真空蒸發(fā)鍍膜常用的兩種鍍膜方法

常用的兩種鍍膜方法 1，真空蒸發(fā)鍍膜，就是把材料用一些特定方式液化后，蒸發(fā)結晶于鏡片表面的方式。離子輔助鍍膜是指蒸發(fā)過程中，微粒離子化，增加均勻性和附著力和氧化程度的方法。 2，濺射式鍍膜，是利用高電壓電離某些氣體，使之碰撞靶材增加能量，靶材能量到達一定程度噴射出來的鍍膜方式。離子濺射鍍膜是指在濺射能量來源為離子，并且微粒飛翔過程中有明顯離子狀態(tài)，并使用磁場控制其飛翔軌跡的鍍膜方式。

實驗室中使用小型鍍膜設備

實驗室中使用小型鍍膜設備 我們在實驗室中使用的基本上都是小型的鍍膜設備，下面我們就來了解一下這種設備。 用作真空蒸發(fā)鍍的裝置稱為蒸發(fā)鍍膜機。蒸發(fā)鍍膜機主要由真空室、排氣系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)和電氣設備四部分組成。真空室是放置鍍件、進行鍍膜的場所，直徑一般為400~700mm，高400~800mm，用不銹鋼或碳鋼制作，有水冷卻裝置。 真空中制備膜層可防止膜料和鍍件表面的污染，消除空間碰撞，提高鍍層的致密性和可制備單一化合物的特殊功能的鍍層。 為了提高鍍層厚度的均勻性，真空室內(nèi)的鍍件夾具有行星機構或自轉加公轉的運動裝置，如用行星運動方式，這種運動方式成膜均勻性好，臺階覆蓋性能良好，鍍件裝載量大，可以充分利用真空鍍膜室的有效空間，是目前經(jīng)常采用的運動方式。 排氣系統(tǒng)一般由機械泵、擴散泵、管道和閥門組成。為了提高抽氣速率，可在機械泵和擴散泵之間加機械增壓泵。因此，排氣系統(tǒng)既要求在較短的時間內(nèi)獲得低氣壓以保證快速的工作循環(huán)，也要求確保在蒸氣鍍膜時迅速排除從蒸發(fā)源和工作物表面所產(chǎn)生的氣體。

光學鍍膜機對于單片膜色不均勻產(chǎn)生的原因

光學鍍膜機對于單片膜色不均勻產(chǎn)生的原因 光學鍍膜機主要是由于基片凹凸嚴重，與傘片曲率差異較大，基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大，形成的膜厚差異大。 另外鏡片被鏡圈()邊緣部遮擋、鏡圈()臟在蒸鍍時污染鏡片等等也會造成膜色差異問題。 改善思路：改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角。 改善對策： ㈠ 條件許可，用行星夾具; ㈡ 選用傘片平坦(R大)的機臺; ㈢ 根據(jù)傘片孔位分布，基片形狀，制作專門的鋸齒形修正板。 ㈣ 如果有可能，把蒸發(fā)源往真空室中間移動，也可改善單片的膜色均勻性。 ㈤ 改善鏡圈()，防止遮擋。 ㈥ 注意旋轉傘架的相應部位對邊緣鏡片的部分遮擋 ㈦ 清潔鏡圈() ㈧ 改善膜料蒸發(fā)狀況。