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雙色真空鍍膜機PVD技術(shù)的應(yīng)用范圍及優(yōu)缺點
很多人對真空鍍膜機PVD技術(shù)的了解不是特別全,也不知道具體是應(yīng)用到哪些行業(yè),以及它在實際運用過程有哪些優(yōu)缺點?至成真空小編現(xiàn)在詳細和大家介紹一下:
真空鍍膜機PVD技術(shù)其應(yīng)用范圍是:
1)碳鋼、合金鋼、不銹鋼及鈦合金等金屬材料;
2)金屬材料的表面硬度至少需要在HV170以上。
真空鍍膜機PVD技術(shù)其優(yōu)點是:
與傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)相比,雙色PVD工藝更為復(fù)雜,流程更為繁雜,生產(chǎn)難度高,但外觀效果,兩種顏色的表面硬度都在HV600以上。傳統(tǒng)磁控濺射單色PVD技術(shù)要在實現(xiàn)雙色效果,采取的工藝措施是在整體PVD單色的基礎(chǔ)上把需要實現(xiàn)另一種顏色的區(qū)域激光鐳雕掉或者磨掉。新加工出來的區(qū)域就只能表現(xiàn)金屬的本色,表面硬度也就是金屬本身的表面硬度---HV200左右(而PVD后的表面硬度為HV600以上)。
光學(xué)真空鍍膜機光學(xué)鍍膜特點分類
光學(xué)真空鍍膜機的光學(xué)鍍膜特點有哪些呢?很多人很好奇,畢竟是真空鍍膜行業(yè)的新技術(shù),已經(jīng)廣泛用于數(shù)碼科技,傳統(tǒng)銀鏡,科學(xué)儀器,光通信,半導(dǎo)體,新能源等行業(yè),獲眾多廠商認可,并大量投入使用。那么光學(xué)真空鍍膜機光學(xué)鍍膜特點分哪幾種類型呢?下面為大家詳細介紹一下:
主要的光學(xué)真空鍍膜機光學(xué)薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等,它們在國民經(jīng)濟和建設(shè)中得到廣泛的應(yīng)用,獲得了科學(xué)技術(shù)工作者的日益重視。例如采用減反射膜后可使復(fù)雜的光學(xué)鏡頭的光通量損失成十倍的減小;采用高反射膜比的反射鏡可使激光器的輸出功率成倍提高;利用光學(xué)薄膜可提高硅電池的效率和穩(wěn)定性。
簡單的光學(xué)薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質(zhì)膜層。在這種情況下,可以用光的干涉理論來研究光學(xué)薄膜的光學(xué)性質(zhì)。當(dāng)一束單色光平面波入射到光學(xué)薄膜上時,在它的兩個表面上發(fā)生多次反射和折射,反射光和折射光的方向有反射定律和折射定律給出,反射光合折射光的振幅大小則有菲涅爾公式確定。
光學(xué)鍍膜技術(shù)在過去幾十年實現(xiàn)了飛快的發(fā)展,從舟蒸發(fā)、電子束熱蒸發(fā)及其離子束輔助沉積技術(shù)發(fā)展到離子束濺射和磁控濺射技術(shù)。近年來在這些沉積技術(shù)和裝備領(lǐng)域的主要技術(shù)有以下三點:
一、漸變折射率結(jié)構(gòu)薄膜技術(shù)與裝備:
漸變折射率結(jié)構(gòu)薄膜技術(shù)與裝備:已經(jīng)有大量研究工作已經(jīng)證實Rugate無界面型薄膜結(jié)構(gòu)和準(zhǔn)Rugate多種折射率薄膜結(jié)構(gòu)通過加強調(diào)制折射率在薄膜厚度方向上分布,能設(shè)計出非常復(fù)雜的光譜性能,(部分)消除
了薄膜界面特征,(部分)消除界面效應(yīng),如電磁波在界面上比薄膜內(nèi)部更高密度的吸收中心和散射,也可以增加了薄膜力學(xué)穩(wěn)定性。
二、磁控濺射光學(xué)鍍膜系統(tǒng)
以LeyboldHelios和ShincronRAS為代表,磁控濺射技術(shù)及裝備在精密光學(xué)領(lǐng)域和消費光電子薄膜領(lǐng)域占據(jù)越來越大的份額。磁控濺射薄膜沉積過程控制簡單,粒子能量高,獲得的薄膜結(jié)構(gòu)致密穩(wěn)定。
三、間歇式直接光控:
間歇式直接光控:以LeyboldOptics公司的OMS5000系統(tǒng)為代表,光學(xué)鍍膜過程中越來越多地使用間歇式信號采集系統(tǒng),對鍍膜過程產(chǎn)品片實現(xiàn)直接監(jiān)控。相對于間接光控和晶控系統(tǒng),間歇式直接光控系統(tǒng)有利于降低實際產(chǎn)品上的薄膜厚度分布誤差,可以進一步提高產(chǎn)品良率并減少了工藝調(diào)試時間。
真空磁控濺射鍍膜機工藝,及人員技能選擇
很多人聽說過真空磁控濺射鍍膜工藝,大概只知道它的做用就是鍍膜,但是大家卻不知道,它的鍍膜原理以及流程,為什么它能鍍出精美的膜,包括后期這方面的工作人員該如何選擇,或者是規(guī)劃自己后期的發(fā)展,各人認為,只有你對這個行業(yè)有詳細的了解,這樣你才能做出正確的選擇。
首先給大家講解一下真空磁控濺射鍍膜機鍍膜流程,讓大家知道,那些漂亮的膜是怎么鍍出來的。一般在在鍍膜前,機器都要先抽真空,并且抽真空過程中要加熱,加熱的溫度取決于你工件的材質(zhì)3。當(dāng)真空度達到高真空,一般在0.005Pa左右時,開始Ar離子轟擊清洗,用電弧靶主弧轟擊清洗,接著用用用電弧和磁控靶混合打底和用磁控靶打底,然后通入要鍍的物質(zhì),后降溫出爐就可以了,整個鍍膜的過程就完成了,很多多人,覺的鍍膜工藝很繁瑣,技術(shù)含量很高。其實不然,只要你弄鍍膜流程和鍍膜過程的應(yīng)該注意的細節(jié),然后精力投入進去,其實還是非常好上手的。很過剛?cè)腴T的新人,一腔熱血,想要進入鍍膜行業(yè),想要學(xué)習(xí)技術(shù),但是卻沒有了解他到底想要學(xué)習(xí)什么技術(shù)。是鍍膜工藝技術(shù),鍍膜設(shè)備方面的技術(shù),很多新人對此行業(yè)了解不深,把這兩者混為一談,只是這兩者是有很大區(qū)別的,尤其是剛進入行業(yè)的新人,要切記及注意。