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在芯片制造領域,光刻機和蝕刻機一直是芯片制造領域的關鍵。在業(yè)界有個形象的比喻,光刻機是芯片制造的魂,蝕刻機是芯片制造的魄,如果要想制造的芯片,這兩個東西都必須。
而在光刻機方面,與世界的7nm制程都相去甚遠。不管三星、英特爾還是臺積電在芯片制程工藝方面如何去競爭,但ASML終究是背后霸主,贏家,因為他們誰都離不開他的EUV光刻機。而國產(chǎn)光刻機還在路上,目前我國已經(jīng)能夠使用365納米波長的光生產(chǎn)22納米工藝的芯片,這在全世界尚無先例,它也被稱為世界上首臺分辨力的紫外超分辨光刻裝備。這也意味著國產(chǎn)光刻機可以使用低成本光源,實現(xiàn)了更高分辨力的光刻。
光刻機的工作原理是在硅片上涂上一層均勻的光刻膠,這種膠狀物,只能被光腐蝕,而不能被化學物質腐蝕,然后利用紫外線照在上面,其中還包含了編碼,用光把不需要的地方腐蝕掉,用光刻技術制作出自己需要的圖形。蝕刻機被用來在光刻機“復印”到晶圓的電路輪廓上進行雕刻,蝕刻出“山地和溝壑”,形成柵極,也就是常說的晶體管。便于大家理解,簡單來說,光刻機是在一塊木頭上作了一幅畫,而蝕刻機就是根據(jù)光刻機的畫雕刻出3D的作品。但實際上過程并不是我們形容的那么簡單。目前我國中微半導體在蝕刻機方面也是取得了重大成果。
金屬蝕刻就是先在基板上用絲印或網(wǎng)印的方式把基板上需要保護的部位遮住,然后用化學或電化學方式侵蝕掉不需要的部位,后退去保護膜,得到制品的一種加工方式。
是生產(chǎn)標牌、電路板、金屬工藝品、金屬版畫等過程中的關鍵步驟。的技術工業(yè)生產(chǎn)應用是在印刷絲路版,因絲路板的絲線細而密,機械加工很難完成。不同的金屬材料,性質各不相同,蝕刻圖型的精度不同,蝕刻深度不同,所采用的蝕刻方法、工藝以及所用蝕刻液的配方大不一樣,所采用的感光抗蝕材料也各不相同。