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LCD市場助力
全球LCD面板總出貨面積增長,LCD光刻膠需求增加。據(jù)WitsView數(shù)據(jù),雖然近三年國際LCD廠商面板出貨量有所下降,但是由于大屏顯示的市場擴增,LCD整體出貨面積變大,2016年出貨總面積達到1.7億平方米,同比增長4.6%。在下游產(chǎn)業(yè)的帶動下,江瀚咨詢預計國際光刻膠市場規(guī)模在2022年可能突破100億美元。隨著LCD出貨面積的持續(xù)增長,中國產(chǎn)業(yè)信息網(wǎng)預測,未來幾年全球LCD光刻膠的需求量增長速度為4%~6%。隨著國內廠商占據(jù)LCD市場比重越來越大,國內LCD光刻膠需求也會持續(xù)增長。
光刻膠介紹
光刻膠自1959年被發(fā)明以來一直是半導體核心材料,隨后被改進運用到PCB板的制造,并于20世紀90年代運用到平板顯示的加工制造。終應用領域包括消費電子、家用電器、汽車通訊等。
光刻工藝約占整個芯片制造成本的35%,耗時占整個芯片工藝的40%~60%,是半導體制造中核心的工藝。
以半導體光刻膠為例,在光刻工藝中,光刻膠被均勻涂布在襯底上,經(jīng)過曝光(改變光刻膠溶解度)、顯影(利用顯影液溶解改性后光刻膠的可溶部分)與刻蝕等工藝,將掩膜版上的圖形轉移到襯底上,形成與掩膜版完全對應的幾何圖形。
光刻技術隨著IC集成度的提升而不斷發(fā)展。PR1-2000A1可以滿足對附著能力較高的要求,在使用PR1-2000A1時一般不需要增粘劑,如HMDS。為了滿足集成電路對密度和集成度水平的更高要求,半導體用光刻膠通過不斷縮短曝光波長以極限分辨率,世界芯片工藝水平目前已跨入微納米級別,光刻膠的波長由紫外寬譜逐步至g線(436nm)、i線(365nm)、KrF(248nm)、 ArF(193nm)、F2(157nm),以及達到EUV(<13.5nm)線水平。
目前,半導體市場上主要使用的光刻膠包括 g 線、i 線、KrF、ArF四類光刻膠,其中,g線和i線光刻膠是市場上使用量較大的。KrF和ArF光刻膠核心技術基本被日本和美國企業(yè)所壟斷。
光刻膠編碼 HS編碼: |
3707100001 [類注] | [章注] | [子目注釋] |
中文描述: | 不含銀的感光乳液劑 (CIQ碼:301:液體) |
英文描述: | Non--0--silver light-sensitive emulsion agent |
申報要素: | 0.品牌類型;1.出口享惠情況;2.用途;3.包裝;4.成分;為了實現(xiàn)7nm、5nm制程,傳統(tǒng)光刻技術遇到瓶頸,EUV(13。5.是否含銀;6.品牌;7.型號;8.是否有感光作用(以下要素僅上海海關要求)9.GTIN;10.CAS |
申報要素舉例: | / 1.感光劑;2.用途:感光材料,用于噴墨制版機;3.包裝:瓶裝;4.成分:重氮樹脂94%以上;5.無品牌;6.無型號 |
單位: |
千克![]() |