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EDI設(shè)備的污染判斷及清洗方法
EDI設(shè)備的污染判斷及清洗方法 雖然EDI膜塊的進(jìn)水條件在很大的程度上減少了膜塊內(nèi)部阻塞的機(jī)會(huì),但是隨著設(shè)備運(yùn)行時(shí)間的延展,EDI膜塊內(nèi)部水道還是有可能產(chǎn)生阻塞,這主要是EDI進(jìn)水中含有較多的溶質(zhì),在濃水室中形成鹽的沉淀。如果進(jìn)水中含有大量的鈣鎂離子(硬度超過(guò)0.8ppm)、CO2和較高的 PH 值,將會(huì)加快沉淀的速度。遇到這種情況,我們可以通過(guò)化學(xué)清洗的方法對(duì)EDI膜塊進(jìn)行清洗,使之恢復(fù)到原來(lái)的技術(shù)特性。
高純水的含量小于0
什么是高純水 高純水是化學(xué)純度極高的水,其中的雜質(zhì)的含量小于0.1mg/L,一般在電子、、航天或其他特殊行業(yè)工藝生產(chǎn)中,為了達(dá)到產(chǎn)品所需工藝用水,一般需要電導(dǎo)率0.055μS/cm(電阻率18.2 MΩ?cm)的理論純水,統(tǒng)稱為高純水或超純水 目前人們制成的高純水的純度已經(jīng)達(dá)到99.999999%,其中雜質(zhì)含量低于0.01mg/L,將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎全部去除,又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體和有機(jī)物均去除至很低程度的水。高純水的含鹽量在0. 3mg/L以下,電導(dǎo)率小于0. 2μs/cm。
高純水設(shè)備性能優(yōu)勢(shì)可連續(xù),穩(wěn)定地生產(chǎn)高品質(zhì)純水
高純水設(shè)備性能優(yōu)勢(shì) 可連續(xù),穩(wěn)定地生產(chǎn)高品質(zhì)純水,無(wú)需因樹(shù)脂再生而停機(jī)。 無(wú)污染物排放,既環(huán)保又省去了廢液處理的投資。 設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊,占地面積小,節(jié)省空間,同時(shí)還具有節(jié)能優(yōu)點(diǎn)。 日常保養(yǎng),操作簡(jiǎn)單,勞動(dòng)強(qiáng)度低。 主要應(yīng)用行業(yè) 廣泛用于微電子工業(yè),半導(dǎo)體工業(yè),發(fā)電工業(yè),制藥行業(yè)和實(shí)驗(yàn)室,也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠的鍋爐的補(bǔ)給水,以及其它應(yīng)用高純水。