多源有機無機熱蒸發(fā)鍍膜機銷售擇優(yōu)推薦“本信息長期有效”

300D三源有機蒸發(fā)鍍膜機

主要用途：

特別適合OPV/鈣鈦礦/無機薄膜太陽能電池、半導體、有機EL、OLED顯示研究與開發(fā)領域。

系統(tǒng)組成:

主要由真空室系統(tǒng)蒸發(fā)室、蒸發(fā)源系統(tǒng)、樣品臺系統(tǒng)、 真空抽氣及測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、膜厚測試 系統(tǒng)、電控系統(tǒng)組成。

技術指標：

極限真空度6.7×10-5Pa，系統(tǒng)漏率：1×10-7PaL/S； 恢復真空時間：40分鐘可達6.6×10 Pa（短時間暴露 大氣并充干燥氮氣后開始抽氣）

樣品臺：尺寸為4英寸平面樣品；

蒸發(fā)源：3套

4套擋板系統(tǒng)：擋板共有3套，動密封手動控制；

氣路系統(tǒng):質量流量控制器1路

石英晶振膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999?

可選分子泵組或者低溫泵組合渦旋干泵抽氣系統(tǒng)

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電阻蒸發(fā)鍍膜機介紹

通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面，稱為熱蒸發(fā)鍍膜，熱蒸發(fā)鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。

在高真空下，采用電阻式蒸發(fā)原理，利用大電流在蒸發(fā)舟上加熱所蒸鍍材料，使其在高溫下熔化蒸發(fā)，從而在樣品上沉積所需要的薄膜。通過調節(jié)所加電流的大小，可以方便的控制鍍膜材料的蒸發(fā)速率。通常適合熔點低于1500oC的金屬薄膜的制備。

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