制版公司給您好的建議「蘇州制版」

光掩膜上游主要包括圖形設(shè)計(jì)、光掩膜設(shè)備及材料行業(yè)，下游主要包括IC制造、IC封裝、平面顯示和印制線(xiàn)路板等行業(yè)，應(yīng)用于主流消費(fèi)電子 （手機(jī)、平板、可穿戴設(shè)備）、筆記本電腦、車(chē)載電子、網(wǎng)絡(luò)通信、家用電器、LED 照明、物聯(lián)網(wǎng)、電子等終端產(chǎn)品。

目前全球范圍內(nèi)光刻掩膜版主要以專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)商為主。由于下游應(yīng)用領(lǐng)域廠商自建光刻掩膜版生產(chǎn)線(xiàn)的投入產(chǎn)出比很低，且光刻掩膜版行業(yè)具有一定的技術(shù)壁壘，所以光刻掩膜版都是由專(zhuān)業(yè)的生產(chǎn)商進(jìn)行生產(chǎn)。

公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶(hù)的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

烤版時(shí)還要注意：①烤版箱內(nèi)的紅外燈管一定要橫向排列，如縱向排列，往往導(dǎo)致印版瓦楞狀變形而影響使用。②烤版膠濃度要合適，如烤版膠太稠，烤版效果和上墨效果也不會(huì)令人滿(mǎn)意；下圖是以激光為光源的光刻機(jī)簡(jiǎn)易工作原理圖：在制造芯片時(shí)，首先在晶圓（硅晶片）表面涂光感膠，再用光線(xiàn)透過(guò)掩模版（相當(dāng)于芯片電路圖紙的底片）照射硅片表面，被光線(xiàn)照射到的光感膠會(huì)發(fā)生反應(yīng)。如烤版膠太稀，烤出的版容易上臟。③烤版溫度不能過(guò)高，溫度過(guò)高也會(huì)導(dǎo)致鋁版基韌化和發(fā)軟，樹(shù)脂層焦化，影響耐印力?？景鏁r(shí)間太長(zhǎng)易導(dǎo)致印版上臟，烤版時(shí)間太短達(dá)不到烤版的效果。看上去制版工藝不是太復(fù)雜，但要想制作出合格的印版，確實(shí)需要操作人員用心曬版，用心加工印版。

機(jī)顯時(shí)還要注意以下幾點(diǎn)：①要定期維護(hù)顯影機(jī)，以保證已曝光的PS版顯影能正常進(jìn)行。②在顯影之前必須保持各傳動(dòng)輥清潔，若牽引輥不干凈，顯影時(shí)印版易粘上臟點(diǎn)。③如顯影機(jī)有涂膠裝置，一定注意膠輥要保持清潔，否則要弄臟印版。④一般情況下，陽(yáng)圖PS版顯影液(原液)的顯影能力為10m2/L。⑤上保護(hù)膠時(shí)，一定要均勻施膠，不能太厚，以免干后導(dǎo)致涂層龜裂和掉版。在制版中影響印版質(zhì)量的因素，主要有顯影液濃度、顯影溫度和顯影時(shí)間以及顯影液的循環(huán)攪拌情況、顯影液的疲勞程度等。