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從鍍膜的原理及特點看，真空蒸鍍工件不帶電，真空條件下金屬加熱蒸發(fā)沉積到工件表面，沉積粒子的能量與蒸發(fā)時的溫度對應。下面說一下陰極真空磁控濺射法，通過磁控濺射，在優(yōu)質浮法玻璃的表面鍍一層或多層金屬、或金屬化合物薄膜。濺射的工件為陽極，靶為陰極，利用原子的濺射作用把靶材原子擊出而沉積在工件表面上，沉積原子的能量由被濺射原子的能量分布決定。離子鍍的工件為陰極，蒸發(fā)源為陽極，進入輝光放電空間的金屬原子離子化后奔向工件，并在工件表面沉積成膜，沉積過程中離子對基片表面、膜層與基片的界面以及膜層本身都發(fā)生轟擊作用，粒子的能量決定于陰極上所加的電壓。

物理q相沉積法真空鍍膜技術（由于這種方法基本上都是處于真空環(huán)境下進行的，因此稱它們?yōu)檎婵斟兡ぜ夹g）。真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加工的新技術，是表面工程技術領域的重要組成部分。

真空鍍膜技術是使置待鍍金屬和被鍍塑料制品位于真空室內，采用一定方法加熱待鍍材料，使金屬蒸發(fā)或升華，金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。雖然化學汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。

真空鍍膜有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。

真空蒸鍍是將沉積材料與工件同放在真空室中，然后加熱沉積材料使之迅速熔化蒸發(fā)，當蒸發(fā)原子與冷工件表面接觸后便在工件表面上凝結形成具有一定厚度的沉積層日。

電子束蒸發(fā)源的優(yōu)點為：①電子束轟擊熱源的束流密度高，能獲得遠比電阻加熱源更大的能量密度?？梢允垢呷埸c（可高達3000°C以上）材料蒸發(fā)，并且能有較高的蒸發(fā)速度；②由于被蒸發(fā)材料是置于水冷堆鍋內，因而可避免容器材料的蒸發(fā)，以及容器材料與蒸鍍材料之間的反應，這對提高鍍膜的純度極為重要；鍍膜工藝流程中工藝參數的控制和對膜層沉積的影響：金屬過渡層：過渡層能有效的減小膜-基或不同鍍層間因材料熱膨脹系數等物理性能不同而形成的應力，提高結合力，但是金屬過渡層太厚容易引起基體軟化，結合力反而會變差。③熱量可直接加到蒸鍍材料的表面，因而熱，熱傳導和熱輻射的損失少。