寧波光罩誠信企業(yè)「多圖」

公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光刻工藝

是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個重要步驟，利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫器件結(jié)構(gòu)，再通過刻蝕工藝將掩膜上的圖形轉(zhuǎn)換到襯底上。原位芯片目前掌握電子束光刻，步進(jìn)式光刻，接觸式光刻等多種光刻技術(shù).

光刻板的應(yīng)用光刻技術(shù)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體器件，集成電路制造過程中

用選定的圖像、圖形或物體，對處理的圖像（全部或局部）進(jìn)行遮擋，來控制圖像處理的區(qū)域或處理過程。用于覆蓋的特定圖像或物體稱為掩?；蚰０濉９鈱W(xué)圖像處理中,掩?？梢允悄z片、濾光片等。數(shù)字圖像處理中,掩模為二維矩陣數(shù)組,有時也用多值圖像。

光學(xué)掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)。下圖是以激光為光源的光刻機(jī)簡易工作原理圖：在制造芯片時，首先在晶圓（硅晶片）表面涂光感膠，再用光線透過掩模版（相當(dāng)于芯片電路圖紙的底片）照射硅片表面，被光線照射到的光感膠會發(fā)生反應(yīng)。掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機(jī)電系統(tǒng)）等。