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脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積也被稱為脈沖激光燒蝕（pulsed laser ablation，PLA），是一種利用激光對物體進行轟擊，然后將轟擊出來的物質沉淀在不同的襯底上，得到沉淀或者薄膜的一種手段。

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脈沖激光沉積機制

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PLD的系統(tǒng)設備簡單，相反，它的原理卻是非常復雜的物理現象。正確的設計是成功使用RHEED和PLD的重要因數RHEED通常在高真空（<。它涉及高能量脈沖輻射沖擊固體靶時，激光與物質之間的所有物理相互作用，亦包括等離子羽狀物的形成，其后已熔化的物質通過等離子羽狀物到達已加熱的基片表面的轉移，及膜的生成過程。所以，PLD一般可以分為以下四個階段：

1. 激光輻射與靶的相互作用

2. 熔化物質的動態(tài)

3. 熔化物質在基片的沉積

4. 薄膜在基片表面的成核（nucleation）與生成。

脈沖激光沉積細節(jié)介紹

很多復雜氧化物薄膜在相對高的氧氣壓力（>100 Torr）下冷卻是有利的。所有Pioneer 系統(tǒng)設計的工作壓力范圍。從它們的額定初始壓力到大氣壓力。這也有益于納米粒子的生成。

Pioneer PLD 系統(tǒng)的激光束入射角為45°，保持了激光密度在靶材上的均勻性，同時避免使用復雜而昂貴的光學部件。淺的入射角能夠拉長靶材上的激光斑點，導致密度均勻性的損失。

為了避免使用昂貴的與氧氣兼容的真空泵流體，消除油的回流對薄膜質量的影響，所有Pioneer 系統(tǒng)的標準配置都采用無油真空系統(tǒng)。

我們的研究表明靶和基片的距離是獲得較佳薄膜質量的關鍵參數。Pioneer 系統(tǒng)采用可變的靶和基片的距離，對沉積條件進行較大的控制。

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脈沖激光沉積設備介紹

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是比較理想的薄膜與涂層合成設備。如果您想要了解更多脈沖激光沉積的知識，歡迎撥打圖片上的熱線聯系我們?？芍苽涞谋∧ぐǖ?、氧化物、多層膜、鉆石、石墨烯、碳納米管、2D材料。Blue Wave還提供相關系統(tǒng)配件，例如基片加熱裝置、原位監(jiān)測工具。此外，BlueWave還為您提供標準的薄膜以及材料涂層，例如氧化物涂層、導電薄膜、無定型或納米晶Si/SiC、晶體AlN-GaN、聚合物、納米鉆石、HFCVD鉆石涂層以及器件加工。