北京手機殼光學鍍膜工藝性價比高,東莞市仁睿電子科技

由于選用物理氣相堆積工藝可大幅度進步刀具的切削性能，人們在競相開發(fā)、高可靠性設備的一同，也對其運用范疇的擴展，尤其是在高速鋼、硬質合金和陶瓷類刀具中的運用進行了愈加深化的研究。

化學氣相堆積技術是把含有構成薄膜元素的單質氣體或化合物供給基體，憑仗氣相作用或基體表面上的化學反應，在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法，首要包含常壓化學氣相堆積、低壓化學氣相堆積和兼有CVD和PVD兩者特點的等離子化學氣相堆積等。

與鏈條式傳送機構相比，該機構為剛性傳送，不存在齒合不準確問題同時，由于需要的過渡空間小，可以節(jié)約真空室之間閥門的開關時間、進一步減少不同真空室之間的氣氛互串。因而極大的提高了鍍膜工藝穩(wěn)定可靠性、成品率，降低能耗和成本等。

隨著鍍膜技術的發(fā)展，各類真空鍍膜機也逐漸出現，不管是哪種真空鍍膜機，薄膜的均勻性都會受到一些因素的影響?，F在，我們就以磁濺射真空鍍膜機來分析成膜不均勻的因素。

光學鍍膜：減反射膜是應用廣、產量大的一種光學鍍膜，因此，它至今仍是光學薄膜技術中重要的研究課題，研究的重點是尋找新材料，設計新膜系,改進淀積工藝,使之用少的層數，簡單、穩(wěn)定的工藝，獲得盡可能高的成品率，達到理想的效果。對激光薄膜來說，減反射膜是激光損傷的薄弱環(huán)節(jié)，如何提高它的破壞強度，也是人們關心的問題之一。

反射膜：它的功能是增加光學表面的反射率。反射膜一般可分為兩大類，一類是金屬反射膜，一類是全電介質反射膜。此外，還有把兩者結合起來的金屬電介質反射膜。