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由于選用物理氣相堆積工藝可大幅度進(jìn)步刀具的切削性能,人們在競相開發(fā)、高可靠性設(shè)備的一同,也對其運(yùn)用范疇的擴(kuò)展,尤其是在高速鋼、硬質(zhì)合金和陶瓷類刀具中的運(yùn)用進(jìn)行了愈加深化的研究。
化學(xué)氣相堆積技術(shù)是把含有構(gòu)成薄膜元素的單質(zhì)氣體或化合物供給基體,憑仗氣相作用或基體表面上的化學(xué)反應(yīng),在基體上制出金屬或化合物薄膜的方法,首要包含常壓化學(xué)氣相堆積、低壓化學(xué)氣相堆積和兼有CVD和PVD兩者特點(diǎn)的等離子化學(xué)氣相堆積等。
與鏈條式傳送機(jī)構(gòu)相比,該機(jī)構(gòu)為剛性傳送,不存在齒合不準(zhǔn)確問題同時(shí),由于需要的過渡空間小,可以節(jié)約真空室之間閥門的開關(guān)時(shí)間、進(jìn)一步減少不同真空室之間的氣氛互串。因而極大的提高了鍍膜工藝穩(wěn)定可靠性、成品率,降低能耗和成本等。
隨著鍍膜技術(shù)的發(fā)展,各類真空鍍膜機(jī)也逐漸出現(xiàn),不管是哪種真空鍍膜機(jī),薄膜的均勻性都會受到一些因素的影響?,F(xiàn)在,我們就以磁濺射真空鍍膜機(jī)來分析成膜不均勻的因素。
光學(xué)鍍膜:減反射膜是應(yīng)用廣、產(chǎn)量大的一種光學(xué)鍍膜,因此,它至今仍是光學(xué)薄膜技術(shù)中重要的研究課題,研究的重點(diǎn)是尋找新材料,設(shè)計(jì)新膜系,改進(jìn)淀積工藝,使之用少的層數(shù),簡單、穩(wěn)定的工藝,獲得盡可能高的成品率,達(dá)到理想的效果。對激光薄膜來說,減反射膜是激光損傷的薄弱環(huán)節(jié),如何提高它的破壞強(qiáng)度,也是人們關(guān)心的問題之一。
反射膜:它的功能是增加光學(xué)表面的反射率。反射膜一般可分為兩大類,一類是金屬反射膜,一類是全電介質(zhì)反射膜。此外,還有把兩者結(jié)合起來的金屬電介質(zhì)反射膜。