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磁控濺射法定義是什么？

磁控濺射法是在高真空充入適量的Ar氣，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽(yáng)極（鍍膜室壁）之間施加幾百K直流電壓，在鍍膜室內(nèi)產(chǎn)生磁控型異常輝光放電，使Ar氣發(fā)生電離。Ar離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面，將靶材表面原子濺射出來(lái)沉積在基底表面上形成薄膜。

離子濺射鍍膜機(jī)

多靶離子束濺射鍍膜機(jī)系統(tǒng)在光學(xué)薄膜沉積應(yīng)用中處于較高地位。多靶離子束濺射鍍膜機(jī)是當(dāng)今僅存的在同一系統(tǒng)可互換使用行星型，簡(jiǎn)單旋轉(zhuǎn)型或可翻轉(zhuǎn)型基片裝置的系統(tǒng)。

在通信應(yīng)用上，能用于沉積高產(chǎn)值的200，100和50GHz具有窄通帶,寬截止頻帶,高隔離度,低插損特性的DWDM濾波器，滿足為嚴(yán)格的性能指標(biāo)。在其它光學(xué)應(yīng)用上，多靶離子束濺射鍍膜機(jī)能用于沉積增透膜，復(fù)雜的非四分之一波長(zhǎng)膜層，以及吸收和散射低于百萬(wàn)分位的超低損耗激光鏡。

真空鍍膜機(jī)給物件鍍膜,為什么要在真空狀態(tài)下進(jìn)行?

真空鍍膜機(jī)已經(jīng)廣泛應(yīng)用于生活中，大家對(duì)它也是耳熟能詳，也了解他的作用和用處，包括他的應(yīng)用領(lǐng)域，但是很多人卻不太了解，真空鍍膜機(jī)在給物件鍍上一層膜的時(shí)候，為什么要選擇在真空狀態(tài)下進(jìn)行：

大家都知道物件鍍膜在常壓下蒸鍍膜料無(wú)法形成理想的薄膜，事實(shí)上，如在壓力不夠低(或者說(shuō)真空度不夠高)的情況下同樣得不到好的結(jié)果，比如在10托數(shù)量級(jí)下蒸鍍鋁，得到的膜層不但不光亮，甚至發(fā)灰、發(fā)黑，而且機(jī)械強(qiáng)度極差，用松鼠毛刷輕輕一刷即可將鋁層破壞。蒸鍍必須在一定的真空條件下進(jìn)行，這是因?yàn)椋?

（1）較高的真空度可以保證汽化分子的平均自由程大于蒸發(fā)源到基底的距離。

由于氣體分子的熱運(yùn)動(dòng)，分子之間的碰撞也是極其頻繁的，所以盡管氣體分子運(yùn)動(dòng)的速度相當(dāng)?shù)母?可達(dá)每秒幾百米)，但是由于它在前進(jìn)的過(guò)程中要與其它分子多次碰撞，一個(gè)分子在兩次連續(xù)碰撞之間所走的距離被稱為它的自由程，而大量分子自由程的統(tǒng)計(jì)平均值就被稱為分子的平均自由程。

（2）在較高的真空度下可以減少殘余氣體的污染在真空度不太高的情況下，真空室內(nèi)含有眾多的殘余氣體分子(氧、氮、水及碳?xì)浠衔锏?，它們能給薄膜的鍍制帶來(lái)極大的危害。它們與汽化的膜料分子碰撞使平均自由程變短；它們與正在成膜的表面碰撞并與之反應(yīng)；它們隱藏在已形成的薄膜中逐漸侵蝕薄膜；它們與蒸發(fā)源高溫化合減少其使用壽命；它們?cè)谝颜舭l(fā)的膜料表面上形成氧化層使蒸鍍過(guò)程不能順利進(jìn)行。

PVD真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝原理

PVD即物理氣相沉積，分為：真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜和真空濺射鍍；通常說(shuō)的NCVM鍍膜，就是指真空蒸發(fā)鍍膜。PVD真空鍍膜機(jī)鍍膜工藝原理分為以下三種情況：

（1）真空蒸鍍基本原理：在真空條件下，使金屬、金屬合金等蒸發(fā)，然后沉積在基體表面上，蒸發(fā)的方法常用電阻加熱，電子束轟擊鍍料，使蒸發(fā)成氣相，然后沉積在基體表面，真空蒸鍍是PVD法中使用早的技術(shù)。

（2）濺射鍍膜基本原理：充Ar（Ar）氣的真空條件下，使Ar氣進(jìn)行輝光放電，這時(shí)Ar（Ar）原子電離成Ar離子（Ar），Ar離子在電場(chǎng)力的作用下，加速轟擊以鍍料制作的陰極靶材，靶材會(huì)被濺射出來(lái)而沉積到工件表面。濺射鍍膜中的入射離子，一般采用輝光放電獲得，在l0-2Pa～10Pa范圍，所以濺射出來(lái)的粒子在飛向基體過(guò)程中，易和真空室中的氣體分子發(fā)生碰撞，使運(yùn)動(dòng)方向隨機(jī)，沉積的膜易于均勻。

（3）離子鍍基本原理：在真空條件下，采用某種等離子體電離技術(shù)，使鍍料原子部分電離成離子，同時(shí)產(chǎn)生許多高能量的中性原子，在被鍍基體上加負(fù)偏壓。這樣在深度負(fù)偏壓的作用下，離子沉積于基體表面形成薄膜。

磁控真空鍍膜機(jī)做漸變色原理

現(xiàn)在很多物件都鍍有漸變色，顏色很絢麗也很顯目，現(xiàn)在很多牌子手機(jī)殼也應(yīng)用了這種漸變色，因此，漸變色也越來(lái)越受人們關(guān)注，漸變色制作原理也激起了大家的興趣，今天至成小編為大家詳細(xì)介紹一下真開工鍍膜機(jī)做漸變色的原理和方法，希望能幫助到大家。

真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。而漸變色的工藝制法一般用的磁控濺射鍍膜設(shè)備，目前華為、聯(lián)想等多款手機(jī)漸變色外殼都采用了PVD真空漸變鍍膜工藝。

磁控濺射真空鍍膜設(shè)備是現(xiàn)有產(chǎn)品在真空條件下鍍膜使用的多的一種設(shè)備，一臺(tái)完整的磁控濺射真空鍍膜機(jī)是由多部分系統(tǒng)組成的，每個(gè)系統(tǒng)可以完成不同的功能，從而實(shí)現(xiàn)終的高品質(zhì)鍍膜，磁控濺射鍍膜其組成包括真空腔、機(jī)械泵、真空測(cè)試系統(tǒng)、油擴(kuò)散泵、抽真空系統(tǒng)、冷凝泵以及成膜控制系統(tǒng)等等。

磁控濺射真空鍍膜機(jī)的主體是真空腔，真空腔大小是由加工產(chǎn)品所決定，磁控濺射鍍膜的大小能定制，腔體一般是用不銹鋼材料制作，要求結(jié)實(shí)耐用不生銹等。磁控濺射鍍膜真空腔有許多連接閥用來(lái)連接各種輔助泵。

磁控濺射鍍膜成膜控制系統(tǒng)能采用不同方式，比如固定鍍制時(shí)間、目測(cè)、監(jiān)控以及水晶震蕩監(jiān)控等。真空鍍膜機(jī)、真空鍍膜設(shè)備鍍膜方式也分多種工藝，常用的有離子蒸發(fā)鍍膜和磁控濺射鍍膜。磁控濺射方式鍍制的膜層附著力強(qiáng)，膜層的純度高，可以同時(shí)濺射多種不同成分的材料。