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發(fā)布時間:2020-12-31 07:03  






星鑫海鍍膜小編來和您介紹一下電鍍加工廠選用電鍍生產(chǎn)線的重要依據(jù)。目前市場上可供電鍍加工廠選擇的生產(chǎn)線有不少,比如環(huán)形電鍍自動生產(chǎn)線,它采用的是機(jī)械聯(lián)動傳送裝置,各工藝槽的長度是按照相關(guān)工序的處理時間確定的。由于生產(chǎn)線上各工藝槽通常都是滿負(fù)荷狀態(tài),所以這種生產(chǎn)線的特點就是效率較高、產(chǎn)量大。③電子束加熱源:適用于蒸發(fā)溫度較高的材料,即用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。文章到這里,大家都了解清楚了嗎?


對于大面積鍍膜,常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程,以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動能約為0.1~0.2電子伏。

蒸發(fā)源有三種類型。①電阻加熱源:用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì)電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。②高頻感應(yīng)加熱源:用高頻感應(yīng)電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì)。有光電保護(hù)回路的壓力機(jī),開機(jī)前應(yīng)先調(diào)試光電的合適的工作位置并試車。③電子束加熱源:適用于蒸發(fā)溫度較高的材料,即用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。


全稱物理氣相沉積,是一種工業(yè)制造上的工藝,是主要利用物理過程來沉積薄膜的技術(shù)。

工藝流程:

PVD前清洗→進(jìn)爐抽真空→洗靶及離子清洗→鍍膜→鍍膜結(jié)束,冷卻出爐→后處理(拋光、AFP)

技術(shù)特點:

PVD可以在金屬表面鍍覆高硬鍍、高耐磨性的金屬陶瓷裝飾鍍層

五、電鍍

是利用電解作用使金屬的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止腐蝕,提高耐磨性、導(dǎo)電性、反光性及增進(jìn)美觀等作用的一種技術(shù)。

工藝流程:

前處理→無qing堿銅→無qing白銅錫→鍍鉻

優(yōu)點:

1、鍍層光澤度高,高品質(zhì)金屬外觀;

2、基材為SUS、Al、Zn、Mg等;成本相對PVD低。




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