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鈦金真空鍍膜武義縣恒緣鈦金廠是一家從事【uv鍍膜】【UV真空鍍膜】加工服務的廠家,主要鍍膜產品有不銹鋼,鐵,鋁合金,玻璃制品,塑料工藝制品等,鍍膜顏色多樣豐富,可根據客戶的產品進行設計和定制。
恒緣鈦金與您分享真空電鍍工藝中封閉性
塑膠在成型的過程中,往往要添加一些物質,如色粉,阻燃劑,脫模時還要噴灑脫模劑,也同樣無法避免一些雜質參雜其中,同時啤塑條件差異也使得塑膠產生毛細微孔,在常溫長壓的狀態(tài)下是沒辦法用肉眼觀察得到,但在真空狀態(tài)下,塑膠中含有的一些揮發(fā)性小分子子化合物,包括殘留的脫模劑就會向塑膠表面遷移,在這種狀態(tài)下,如果底漆的封閉性不好,同塑膠一樣也存在毛細微孔,殘留的小分子化合物通過這些毛細微孔對真空電鍍層進行沖擊,一般發(fā)生在由負壓變成常壓的狀態(tài)下,在底漆和真空電鍍金屬層之間產生微觀隔離地帶,直接影響底漆和真空電鍍層的附著力,這種天生的附著力欠缺,在沒有進行面漆涂裝時并沒有馬上表現出來,而是表現在涂裝面漆之后,有時后掉漆馬上出現,有時候要等3-7天以后,應該理解為:小分子殘留化合物需要時間通過毛細微孔,面漆的后反應過程加長使得應力積累慢慢增強。耐水煮在真空電鍍應用中,耐水煮或高溫高濕是較為常規(guī)的測試,若底漆樹脂耐水性不佳或交聯度不夠容易引起水煮起泡、發(fā)彩、鍍層褪色等問題。通過底漆封閉基材,防止真空電鍍時基材中揮發(fā)性物質遷移,影響電鍍質量.涂層封閉性影響因素:油漆配方:固體量,流平性生產工藝:IR流平,UVpu光量,膜厚
恒緣鈦金與您分享真空膜層常用靶材
彩色系膜層和常規(guī)色膜層zui大的區(qū)別就是C值和H值,所以可以說,黑色也是彩色系膜層。
鋯+氮氣:黃綠調金黃色
鋯+jia烷:深淺黑色
鋯+氧氣:白色、透明膜
鋯+氮氣+甲j烷:金色、仿玫瑰金
鉻+甲j烷:深淺黑色
鉻+氮氣:淺黑色
鉻+氮氣+甲j烷:銀灰h色
鉻+氧氣:輕黃色、紫色、綠色
SUS+氧氣:紫色
SUS+氮氣:藍色
SUS+甲j烷:亮黑色
SUS+甲j烷+氮氣:藍黑色
硅+氮氣:黑色
硅+氧氣:混濁白、透明膜
硅+甲j烷:黃色、綠色、藍色、黑色(靶材純度高于99%僅能調黑色)
鈦+氧氣:光學膜七彩截色,不多介紹都懂。
鈦+甲j烷:深淺黑色( DLC制備不能達標)
鈦+氮氣:仿金色、黃銅色、紫色、紅色
鈦+氮氣+甲j烷:仿玫瑰金、黑綠色、復古黃、棕色、紫色
鎢+氮氣:棕黃色
鎢+甲l烷:深淺黑色
鎢+氧氣:紫色,鮮黃色,棕色,藍色
以上僅裝飾薄膜常用材料及其常用氣體,通常甲l烷和乙y炔都可互替,但涉及部分顏色甲l烷效果更好。除以上常用材料外,
金屬靶材還有鎳、鋁、鉭、鉿、錳、銅、鋅、銦、錫、等,均有在鍍膜中使用。多質靶材如鈦鋁、鉻鋁、鈦鋯、銅錳、鎳鉻、硅l鋁、釩錸、鎢鉬等等。
恒緣鈦金與您分享鋁合金表面處理6大工藝(二)
1.高光切削
采用精雕機將鉆石刀加固在高速旋轉(一般轉速為20000轉/分)的精雕機主軸上去切削零件,在產品表面產生局部的高亮區(qū)域。IMD即In-MoldDecoration(模內裝飾技術),亦稱免涂裝技術,是國際風行的表面裝飾技術,表面硬化透明薄膜,中間印刷圖案層,背面注塑層,油墨中間,可使產品耐摩擦,防止表面被刮花,并可長期保持顏色的鮮明不易退色。切削高光的亮度受銑削鉆頭速度的影響,鉆頭速度越快切削的高光越亮,反之則越暗并容易產生刀紋。金屬加工微信,內容不錯,值得關注。高光高光切削在手機的運用中特別多,如iphone5,近年來部分gao端電視機金屬邊框采用了高光銑削工藝,加之陽極氧化及拉絲工藝使得電視機整體充滿了時尚感與科技的銳利感。
2.陽極氧化
陽極氧化是指金屬或合金的電化學氧化,鋁及其合金在相應的電解液和特定的工藝條件下,由于外加電流的作用下,在鋁制品(陽極)上形成一層氧化膜的過程。涂層刀具將基體材料和涂層材料的優(yōu)良性能結合起來,既保持了基體良好的韌性和較高的強度,又具有涂層的高硬度、高耐磨性和低摩擦系數。陽極氧化不但可以解決鋁表面硬度、耐磨損性等方面的缺陷,更能延長鋁的使用壽命并增強美觀度,已成為鋁表面處理不可缺少的一環(huán),是目前應用廣且非常成功的工藝。
3.雙色陽極氧化
雙色陽極氧化是指在一個產品上進行陽極氧化并賦予特定區(qū)域不同的顏色。雙色陽極氧化因為工藝復雜,成本較高;但通過雙色之間的對比,更能體現出產品的高l端、獨特外觀。
恒緣鈦金與您分享反射膜
反射膜一般可分為兩類,一類是金屬反射膜,一類是全電介質反射膜。此外,還有將兩者結合的金屬電介質反射膜,功能是增加光學表面的反射率。
一般金屬都具有較大的消光系數。涂層刀具通用性廣,加工范圍顯著擴大,一種涂層刀具可以代替數種非涂層刀具使用,因而可以大大減少刀具的品種和庫存量,簡化刀具管理,降低刀具和設備成本。當光束由空氣入射到金屬表面時,進入金屬內的光振幅迅速衰減,使得進入金屬內部的光能相應減少,而反射光能增加。消光系數越大,光振幅衰減越迅速,進入金屬內部的光能越少,反射率越高。人們總是選擇消光系數較大,光學性質較穩(wěn)定的金屬作為金屬膜材料。在紫外區(qū)常用的金屬薄材料是鋁,在可見光區(qū)常用鋁和銀,在紅外區(qū)常用金、銀和銅,此外,鉻和鉑也常作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能,所以必須用電介質膜加以保護。常用的保護膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。
金屬反射膜的優(yōu)點是制備工藝簡單,工作的波長范圍寬;缺點是光損大,反射率不可能很高。通常所指蝕刻也稱光化學蝕刻,指通過pu光制版、顯影后,將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除,在蝕刻時接觸化學溶液,達到溶解腐蝕的作用,形成凹凸或者鏤空成型的效果。為了使金屬反射膜的反射率進一步提高,可以在膜的外側加鍍幾層一定厚度的電介質層,組成金屬電介質反射膜。需要指出的是,金屬電介質射膜增加了某一波長(或者某一波區(qū))的反射率,卻破壞了金屬膜中性反射的特點。