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數(shù)據(jù)處理
CD測量數(shù)據(jù)。一般CD Uniformity測試數(shù)據(jù)是一個矩陣。測量點數(shù)有7×7.9x9.11×11或13×13.CD測量數(shù)據(jù)一般分 方向和Y方向的數(shù)據(jù)。由于曝光機的特性,通常Y方向的CD精度高于 方向的精度。所以在做顯影機!性能指標分析時,采用Y方向的CD值分析。數(shù)據(jù)分析軟件。該軟件是一個Excel文檔,通過執(zhí)行文檔中的宏命令對CD數(shù)據(jù)矩陣分析,分離出各種因素對CD均勻性的影響。通常CD均勻性可分解成徑向誤差,鋼材曝光顯影工廠,側(cè)向誤差和隨機誤差。由于我們的顯影設(shè)備是旋轉(zhuǎn)式噴淋,所以我們需分離出徑向誤差加以分析,通過一定補償方法提高CD均勻性指標。
3D曲面玻璃的曝光顯影技術(shù)的優(yōu)勢在于:在玻璃表面有極高的解像力,鋼材曝光顯影廠,利用曝光顯影工藝正好可以解決遮蔽油墨不能通過傳統(tǒng)印刷解決的問題,具有精度高,量產(chǎn)性好,良率高等特點,采用曝光顯影技術(shù),遮蔽油墨可控良率可達90%以上。
曝光顯影作為玻璃外觀修飾的重要工藝,目前技術(shù)工藝方面都已趨于穩(wěn)定,眾多設(shè)備廠家涉獵這方面的技術(shù)。3D曲面CG玻璃須與中框的結(jié)合,但是3D曲面玻璃本身物理加工存在難以去除的公差,進行曝光工藝加工時工藝區(qū)間被壓縮,只有對公差配合完全掌握,才能簡單可靠的做出合格品。
對于已經(jīng)曝光而產(chǎn)生潛影的鹵化銀,鋼材曝光顯影定制,則由于有潛影的地方對Br-的吸附能力是比較弱的,
因此,顯影劑的負離子就可依靠離子本身的動能,克服離子的排斥力,鋼材曝光顯影,使其能夠越過這一缺口與潛影接觸,完成顯影反應(yīng)。由此可見,越是曝光少的地方受到抑制的程度就越大。
根據(jù)顯影的化學(xué)反應(yīng):
Ag 顯劑Ag 顯影氧t (1)在這一反應(yīng)中,銀離子及顯影劑離子越多,還原進行得越快。銀離子可以從鹵化銀電離而來:AgBr Ag Br (2溶液中加入的化鉀,也發(fā)生電離,產(chǎn)生鉀離子和離子,這樣就使溶液中離子增多。離子增多,就減少了化銀的電離度
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