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蒸發(fā)鍍膜
一般是加熱靶材使表面組分以原子團或離子形式被蒸發(fā)出來。厚度均勻性主要取決于:
1、基片材料與靶材的晶格匹配程度
2、基片表面溫度
3、蒸發(fā)功率,速率
4. 真空度
5. 鍍膜時間,厚度大小
組分均勻性:蒸發(fā)鍍膜組分均勻性不是很容易保證,具體可以調(diào)控的因素同上,但是由于原理所限,對于非單一組分鍍膜,蒸發(fā)鍍膜的組分均勻性不好。
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真空鍍膜設備真空泵的選擇
真空泵工作時產(chǎn)生的振動對工藝過程及環(huán)境有無影響。若工藝過程不允許,應選擇無振動的泵或者采取防振動措施。
了解被抽氣體成分,氣體中含不含可凝蒸氣,有無顆?;覊m,有無腐蝕性等。選擇真空泵時,需要知道氣體成分,針對被抽氣體選擇相應的泵。如果氣體中含有蒸氣、顆粒、及腐蝕性氣體,應該考慮在泵的進氣口管路上安裝輔助設備,如冷凝器、除塵器等。
真空泵在其工作壓強下,應能排走真空設備工藝過程中產(chǎn)生的全部氣體量。
真空設備對油污染的要求。若設備嚴格要求無油時,應該選各種無油泵,如:水環(huán)泵、分子篩吸附泵、濺射離子泵、低溫泵等。如果要求不嚴格,可以選擇有油泵,加上一些防油污染措施,如加冷阱、障板、擋油阱等,真空鍍膜系統(tǒng)哪里有,也能達到清潔真空要求。
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真空鍍膜機原理
真空鍍膜機是目前制作真空條件應用為廣泛的真空設備,一般用真空室、真空機組、電氣控制柜三大部分組成,排氣系統(tǒng)采用“擴散泵 機械泵 羅茨泵 低溫冷阱 polycold”組成。本公司從事真空鍍膜設備的研發(fā)與生產(chǎn)擁有經(jīng)驗豐富的技術(shù)團隊及的售后服務隊伍為您解決設備在使用過程中遇到的任何問題。
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