【廣告】
公司產品包括石英掩膜版,蘇打掩膜版,以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖,定制版圖,蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務!
光刻是制造半導體器件和集成電路微圖形結構的關鍵工藝。其工藝質量直接影響著器件成品率、可靠性、器件性能以及使用壽命等參數(shù)指標。光罩是光刻工藝中的一個重要環(huán)節(jié),光刻版必須非常潔凈,所有硅片上的電路元件都來自版圖。如果光刻版不潔凈,光刻板,存在污染顆粒,這些顆粒就會被到硅片表面的光刻膠上,造成器件性能的下降。
掩膜版是制作掩膜圖形的理想感光性空白板,通過曝光過程,這些圖形的信息將被傳遞到芯片上,用來制造芯片。
由于圖形數(shù)據準備是掩膜版加工中的關鍵步驟,要求用戶對所提交的版圖文件仔細核對,確保圖形正確性。以下將對用戶較為關心的版圖繪制問題作出具體說明。光掩模板或者光罩,曝光過程中的原始圖形的載體,通過曝光過程,這些圖形的信息將被傳遞到芯片上。制造芯片時用.
公司產品包括石英掩膜版,蘇打掩膜版,以及菲林版。蘇州制版根據客戶的構想、草圖,定制版圖,蘇州制版提供高質量掩膜版以及后期的代加工服務!
實體結構:布滿集成電路圖像的鉻金屬薄膜的石英玻璃片上的圖像。倍縮光掩模(Reticle):當鉻膜玻璃僅能局部覆蓋晶圓稱為倍縮光掩模,通常圖型要放大4倍、5倍或10倍。光掩模(Mask):當鉻膜玻璃上的圖像能覆蓋整個晶圓時稱之為光罩。
企業(yè): 蘇州優(yōu)版光電有限公司
手機: 17710798515
電話: 0512-81660800
地址: 蘇州工業(yè)園區(qū)星湖街328號崇文路國華大廈B418室