光刻板-光刻版廠

公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

掩膜板是光刻圖形的基準(zhǔn)和藍(lán)本，掩膜板上:的任何缺陷都會(huì)對(duì)終圖形精度產(chǎn)生嚴(yán)重的影響。所以掩膜板必須保持“完關(guān)”。

使用掩膜板存在許多損傷來(lái)源:掩膜板掉鉻:表面擦傷，需要輕拿輕放:靜電放電(ESD)，在掩膜板夾子.上需要連一根導(dǎo)線到金屬桌面，將產(chǎn)生的靜電導(dǎo)出。另外，不能用手觸摸掩膜板:灰塵顆粒，在掩膜板盒打開(kāi)的情況下，不準(zhǔn)進(jìn)出掩膜板室(Mask Room)，在存取掩膜板時(shí)室內(nèi)保持2人。

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通過(guò)金屬化過(guò)程，在硅襯底上布置一層僅數(shù)納米厚的金屬層。然后在這層金屬上覆上一層光刻膠。這層光阻劑在曝光（一般是紫外線）后可以被特定溶液（顯影液）溶解。使特定的光波穿過(guò)光掩膜照射在光刻膠上，光刻板，可以對(duì)光刻膠進(jìn)行選擇性照射（曝光）。然后使用前面提到的顯影液，溶解掉被照射的區(qū)域，這樣，光掩模上的圖形就呈現(xiàn)在光刻膠上。通常還將通過(guò)烘干措施，改善剩余部分光刻膠的一些性質(zhì)。

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光刻（英語(yǔ)：photolithography）是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫(huà)幾何圖形結(jié)構(gòu)，然后通過(guò)刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說(shuō)的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質(zhì)層，例如玻璃、SOS中的藍(lán)寶石。

光刻板-光刻版廠由蘇州優(yōu)版光電有限公司提供。蘇州優(yōu)版光電有限公司擁有很好的服務(wù)與產(chǎn)品，不斷地受到新老用戶及業(yè)內(nèi)人士的肯定和信任。我們公司是商盟認(rèn)證會(huì)員，點(diǎn)擊頁(yè)面的商盟客服圖標(biāo)，可以直接與我們客服人員對(duì)話，愿我們今后的合作愉快！