磁控濺射-創(chuàng)世威納公司

磁控濺射鍍膜設備技術的特點

(1)鋼件形變小因為鋼件表層勻稱遮蓋輝光，溫度完整性好，能夠根據(jù)操縱輸出功率輸出來保持勻稱提溫。另一個陰極無心插柳相抵了滲人原素造成的規(guī)格擴一整 

(2)滲層的機構和構造易于控制根據(jù)調節(jié)加工工藝主要參數(shù)，可獲得單相電或多相的滲層機構 

(3)鋼件不必額外清除陰極無心插柳能夠合理除去空氣氧化膜，清潔鋼件表層，一起真空泵解決無新生兒空氣氧化膜，這種都降低了額外機器設備和綜合工時，減少了成本費。 

(4)防水層便捷不需滲的地區(qū)可簡易地遮掩起來，對自然環(huán)境綠色食品，零污染，勞動者標準好。 

(5)經(jīng)濟收益高，耗能小盡管原始機器設備項目投資很大，但加工工藝成本費極低，是這種便宜的工程設計方式 。除此之外，離子轟擊滲擴技術性易保持加工工藝全過程或滲層品質的運動控制系統(tǒng)，品質可重復性好，可執(zhí)行性強。

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磁控濺射中靶zhong毒是怎么回事，一般的影響因素是什么？

靶zhong毒的影響因素  

影響靶zhong毒的因素主要是反應氣體和濺射氣體的比例，反應氣體過量就會導致靶zhong毒。反應濺射工藝進行過程中靶表面濺射溝道區(qū)域內出現(xiàn)被反應生成物覆蓋或反應生成物被剝離而重新暴露金屬表面此消彼長的過程。如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率，化合物覆蓋面積增加。在一定功率的情況下，參與化合物生成的反應氣體量增加，磁控濺射，化合物生成率增加。如果反應氣體量增加過度，化合物覆蓋面積增加，如果不能及時調整反應氣體流量，化合物覆蓋面積增加的速率得不到抑制，濺射溝道將進一步被化合物覆蓋，當濺射靶被化合物全部覆蓋的時候，靶完全zhong毒。

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濺射原理

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1.1 濺射定義

就像往平靜的湖水里投入石子會濺起水花一樣，用高速離子轟擊固體表面使固體中近表面的原子（或分子）從固體表面逸出，這種現(xiàn)象稱為濺射現(xiàn)象。

1.2 濺射的基本原理

濺射是指具有足夠高能量的粒子轟擊固體表面使其中的原子發(fā)射出來。早期人們認為這一現(xiàn)象源于靶材的局部加熱。但是不久人們發(fā)現(xiàn)濺射與蒸發(fā)有本質區(qū)別，并逐漸認識到濺射是轟擊粒子與靶粒子之間動量傳遞的結果。

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