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靶面金屬化合物的形成。
由金屬靶面通過反應濺射工藝形成化合物的過程中,化合物是在哪里形成的呢?由于活性反應氣體粒子與靶面原子相碰撞產生化學反應生成化合物原子,通常是放熱反應,反應生成熱必須有傳導出去的途徑,否則,無錫真空電鍍,該化學反應無法繼續(xù)進行。在真空條件下氣體之間不可能進行熱傳導,所以,化學反應必須在一個固體表面進行。反應濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結構表面進行。
反應濺射工藝進行過程中靶表面濺射溝道區(qū)域內出現被反應生成物覆蓋或反應生成物被剝離而重新暴露金屬表面此消彼長的過程。如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率,化合物覆蓋面積增加。在一定功率的情況下,參與化合物生成的反應氣體量增加,化合物生成率增加。如果反應氣體量增加過度,化合物覆蓋面積增加,如果不能及時調整反應氣體流量,化合物覆蓋面積增加的速率得不到抑制,濺射溝道將進一步被化合物覆蓋,當濺射靶被化合物全部覆蓋的時候。
根據工件要求提出除氫方法
例如鍍硬鉻,在鍍硬鉻時由于電流效率過低,無錫真空電鍍廠家,只有13%~18%,大部分電流消耗在氫的析出上,氫容易擴散到鍍層和基體金屬的晶格中,滲氫較為嚴重,從而引起疲勞強度的降低,影響動、靜負載強度,故在設計中應提出鍍鉻后除氫處理的要求。經除氫處理之后可去除滲入鍍層和基體中60%~70%的氫,從而大大減輕了脆性而不會降低其硬度。
熱油代替在烘箱內除氫
鍍鉻的電流效率很低,因而鍍層孔隙率較高,且鍍層極易鈍化,同時由于鋼鐵件表面的鉻層優(yōu)勢陰極性鍍層,當鍍層厚度較薄時極易引起銹蝕。為改善這一缺陷環(huán)節(jié),可采取熱油除氫代替在同樣工藝條件下的烘箱中除氫工藝。實踐證明,該工藝方法既可保持工件各部分的溫度均勻,達到完整的除氫效果,又可有效想鉻層的孔隙、裂縫中填充油脂,從而提高了鉻層的防護能力。
同樣的道理,既然電鍍不讓干了,那么一定有能替代其加工生產的技術,與市場上多種金屬表面處理技術相比,合金催化液脫穎而出,成為了替代電鍍加工的克星。
當然,無錫真空電鍍技術,客戶更看重的是合金催化液的優(yōu)越性能。
政策上,它對人體不構成危害,對環(huán)境不構成污染,屬于國家大力提倡的綠色環(huán)保產品。
成本上,設備投資小,生產效益高,工藝簡單,使用便捷,無需任何接電源操作。
范圍上,厚度可控,可用于修復報廢零件,并且耐磨性好,耐腐蝕性強,潤滑性好,沒有黏著性,技術適用范圍廣。
性能上,可與金屬基件結合,強度高,不起皮,不脫落,不生銹,而且催化細致徹底,無麻點,無氣孔。同時,仿型性好,還原基件形狀程度高,無錫真空電鍍工藝,處理后不需要打磨加工。
如今消費者的消費模式和消費心理產生了新的變化,低價不再是消費者追求的目的。人們在保護環(huán)境的同時要也更多地考慮自身的安全,所以對于所有廠家來說,只有選對了環(huán)保金屬表面處理技術才能適應行業(yè)的發(fā)展。
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