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在硅酸鹽體系中分別添加三氧化鉬和鉬酸鈉,對AZ91D鎂合金進行微弧氧化處理,對比研究鉬質(zhì)量濃度相同的三氧化鉬和鉬酸鈉對微弧氧化膜耐蝕性的影響。通過TT260涂層測厚儀、SEM和XRD分別檢測膜層厚度、表面形貌和物相組成。采用點滴和電化學實驗研究膜層的耐蝕性。
結果表明:電解液中加入鉬質(zhì)量濃度相同的MoO3和Na2MoO4后,膜層點滴耐蝕性均有所降低,但電化學耐蝕性均增加,且二者添加量均為少時膜層耐蝕性更佳。
微弧氧化材料表面陶瓷化機理
微弧氧化是一種在高電壓、大電流下對金屬材料進行表面處理的技術。由于采用了較高的電壓(大于250 V),在微弧氧化處理過程中,可在樣品材料表面觀察到光斑(弧光)現(xiàn)象。光斑十分細小,密度很大,且無固定位置。這種細小的光斑意味著在樣品材料表面形成了大量的等離子體微區(qū),在微區(qū)內(nèi)瞬間溫度可達2500℃以上,壓力可達數(shù)百個大氣壓,為上面提到的一系列化學、物理反應的進行創(chuàng)造了條件。利用這一環(huán)境可在材料表面生成具有一定厚度、致密的陶瓷氧化層,小型微弧氧化電源價格,可用來改善材料自身的防腐、耐磨和電絕緣等特性。
微弧氧化膜的性能特點
1、硬度極高,可達1500-2000HV,比一般陽極氧化或電鍍處理高許多。
2、耐磨性好。
3、耐腐蝕性好,耐中性鹽霧可達2000h以上。
4、絕緣性能良好。
5、附著力良好將工件加熱至300℃,微弧氧化電源類型,立即浸入冷水中,微弧氧化電源廠商,反復數(shù)次都未發(fā)現(xiàn)氧化膜掉落。(內(nèi)容僅供參考)
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