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在硅酸鹽體系中分別添加三氧化鉬和鉬酸鈉,對AZ91D鎂合金進行微弧氧化處理,對比研究鉬質(zhì)量濃度相同的三氧化鉬和鉬酸鈉對微弧氧化膜耐蝕性的影響。通過TT260涂層測厚儀、SEM和XRD分別檢測膜層厚度、表面形貌和物相組成。采用點滴和電化學(xué)實驗研究膜層的耐蝕性。
結(jié)果表明:電解液中加入鉬質(zhì)量濃度相同的MoO3和Na2MoO4后,膜層點滴耐蝕性均有所降低,但電化學(xué)耐蝕性均增加,且二者添加量均為少時膜層耐蝕性更佳。
微弧氧化的步驟
一、陽極氧化階段
將樣品置于一定的電解液中,通電后,樣品外表和陰極外表呈現(xiàn)無數(shù)細小的平均的白色氣泡,而且隨電壓升高,氣泡逐步變大變密,鎂合金微弧氧化技術(shù),生成速率也不時加快。在到達擊穿電壓之前,這種現(xiàn)象不斷存在,這一階段就是陽極氧化階段。
二、火花放電階段
當(dāng)施加到樣品的電壓到達擊穿電壓時,鎂合金微弧氧化黑色膜,樣品外表開端呈現(xiàn)無數(shù)細小、亮度較低的火花點。這些火花點密度不高,無爆鳴聲。在該階段,鎂合金微弧氧化著色,樣品外表開端構(gòu)成陶瓷層,但陶瓷層的生長速率很小,硬度和致密度較低,所以應(yīng)盡量減少這一階段的時間。
企業(yè): 日照微弧技術(shù)有限公司
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