金屬鈍化-金華鈍化-昆山法黎鑫金屬制品

在氧化層中大部分的電荷效應(yīng)是直接或間接地同熱氧化的工藝過(guò)程有關(guān)的。在800—1250~C的溫度范圍內(nèi)，用干氧、濕氧或水汽進(jìn)行的熱氧化過(guò)程有三個(gè)持續(xù)的階段，首先是環(huán)境氣氛中的氧進(jìn)入到已生成的氧化層中，然后氧通過(guò)二氧化硅向內(nèi)部擴(kuò)散，當(dāng)它到達(dá)Si02-Si界面時(shí)就同硅發(fā)生反應(yīng)，形成新的二氧化硅。這樣不斷發(fā)生著氧的進(jìn)入—擴(kuò)散—反應(yīng)過(guò)程，鈍化工藝，使靠近界面的硅不斷轉(zhuǎn)化為二氧化硅，金華鈍化，氧化層就以一定的速率向硅片內(nèi)部生長(zhǎng)。

吸附理論認(rèn)為，金屬表面并不需要形成固態(tài)產(chǎn)物膜才鈍化，而只要表面或部分表面形成一層氧或含氧粒子（如O2-或OH-）的吸附層也就足以引起鈍化了。這吸附層雖只有單分子層厚薄，但由于氧在金屬表面上的吸附，改變了金屬與溶液的界面結(jié)構(gòu)，使電極反應(yīng)的活化能升高，表面鈍化，金屬表面反應(yīng)能力下降而鈍化。此理論主要實(shí)驗(yàn)依據(jù)是測(cè)量界面電容和使某些金屬鈍化所需電量。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，金屬鈍化，不需形成成相膜也可使一些金屬鈍化。

當(dāng)金屬溶解時(shí)，處在鈍化條件下，在表面生成緊密的、覆蓋性良好的固態(tài)物質(zhì)，這種物質(zhì)形成獨(dú)鈍化立的相，稱為鈍化膜或稱成相膜，此膜將金屬表面和溶液機(jī)械地隔離開，使金屬的溶解速度大大降低，而呈鈍態(tài)。實(shí)驗(yàn)證據(jù)是在某些鈍化的金屬表面上，可看到成相膜的存在，并能測(cè)其厚度和組成。

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