青島光譜膜厚儀產(chǎn)品介紹

一六 熒光測厚儀 十年以上研發(fā)團隊 集研發(fā)生產(chǎn)銷售一體

元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)   厚度分析范圍:各種元素及有機物

一次可同時分析:23層鍍層,24種元素 厚度檢出限:0.005um

鍍層厚度分析儀測量原理與儀器

一． 磁吸力測量原理鍍層厚度分析儀

磁鐵（測頭）與導磁鋼材之間的吸力大小與處于這兩者之間的距離成一定比例關系，這個距離就是覆層的厚度。利用這一原理制成測厚儀，只要覆層與基材的導磁率之差足夠大，就可進行測量。激光輔助光自動對焦功能可變焦距控制功能和固定焦距控制功能7計算機系統(tǒng)配置IBM計算機:1。鑒于大多數(shù)工業(yè)品采用結構鋼和熱軋冷軋鋼板沖壓成型，所以磁性測厚儀應用廣。測厚儀基本結構由磁鋼，接力簧，標尺及自停機構組成。磁鋼與被測物吸合后，將測量簧在其后逐漸拉長，拉力逐漸增大。當拉力剛好大于吸力，磁鋼脫離的一瞬間記錄下拉力的大小即可獲得覆層厚度。新型的產(chǎn)品可以自動完成這一記錄過程。不同的型號有不同的量程與適用場合。這種儀器的特點是操作簡便、堅固耐用、不用電源，測量前無須校準，價格也較低，很適合車間做現(xiàn)場質(zhì)量控制。

二． 磁感應測量原理鍍層厚度分析儀

采用磁感應原理時，利用從測頭經(jīng)過非鐵磁覆層而流入鐵磁基體的磁通的大小，來測定覆層厚度。也可以測定與之對應的磁阻的大小，來表示其覆層厚度。覆層越厚，則磁阻越大，磁通越小。②、X、Y軸水平移動方式水平移動方式一般分為：無X、Y軸移動裝置。利用磁感應原理的測厚儀，原則上可以有導磁基體上的非導磁覆層厚度。一般要求基材導磁率在500以上。如果覆層材料也有磁性，則要求與基材的導磁率之差足夠大（如鋼上鍍鎳）。當軟芯上繞著線圈的測頭放在被測樣本上時，儀器自動輸出測試電流或測試信號。早期的產(chǎn)品采用指針式表頭，測量感應電動勢的大小，儀器將該信號放大后來指示覆層厚度。近年來的電路設計引入穩(wěn)頻、鎖相、溫度補償?shù)鹊匦录夹g，利用磁阻來調(diào)制測量信號。還采用專利設計的集成電路，引入微機，使測量精度和重現(xiàn)性有了大幅度的提高（幾乎達一個數(shù)量級）。現(xiàn)代的磁感應測厚儀，分辨率達到0.1um，允許誤差達1%，量程達10mm。磁性原理測厚儀可應用來測量鋼鐵表面的油漆層，瓷、搪瓷防護層，塑料、橡膠覆層，包括鎳鉻在內(nèi)的各種有色金屬電鍍層，以及化工石油待業(yè)的各種防腐涂層。

三． 電渦流測量原理鍍層厚度分析儀

高頻交流信號在測頭線圈中產(chǎn)生電磁場，測頭靠近導體時，就在其中形成渦流。測頭離導電基體愈近，則渦流愈大，反射阻抗也愈大。將分光晶體和探測器裝在測角儀上，使它在一定角度范圍內(nèi)轉(zhuǎn)動，一次測量不同波長長譜線的強度，使用這種形式的光譜儀稱為順序掃描式光譜儀。這個反饋作用量表征了測頭與導電基體之間距離的大小，也就是導電基體上非導電覆層厚度的大小。由于這類測頭專門測量非鐵磁金屬基材上的覆層厚度，所以通常稱之為非磁性測頭。非磁性測頭采用高頻材料做線圈鐵芯，例如鉑鎳合金或其它新材料。與磁感應原理比較，主要區(qū)別是測頭不同，信號的頻率不同，信號的大小、標度關系不同。與磁感應測厚儀一樣，渦流測厚儀也達到了分辨率0.1um，允許誤差1%，量程10mm的高水平。

采用電渦流原理的測厚儀，原則上對所有導電體上的非導電體覆層均可測量，如航天航空器表面、車輛、家電、鋁合金門窗及其它鋁制品表面的漆，塑料涂層及陽極氧化膜。如果合金鍍層成分穩(wěn)定，選擇合適的對比分析樣品，就可以準確的分析出合金鍍層的厚度。覆層材料有一定的導電性，通過校準同樣也可測量，但要求兩者的導電率之比至少相差3-5倍（如銅上鍍鉻）。雖然鋼鐵基體亦為導電體，但這類任務還是采用磁性原理測量較為合適。

一六儀器 專業(yè)測厚儀 多道脈沖分析采集,先進EFP算法  X射線熒光鍍層測厚儀

應用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車電子領域.EFP算法結合精準定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題

XTU-A、XTU-50A：五金產(chǎn)品、緊固件、汽車配件、衛(wèi)浴等，測量面積大于?0.2mm的產(chǎn)品

?XTU-BL：主要針對線路板等大平面，但是需要測試?0.1mm以下，且求購儀器預算較低的客戶。

?XTU-50B、XTU-4C：可測試小至?0.05mm測量面積，且搭載的精密移動平臺和變焦鏡頭（XTU全系列都含有）能滿足各種需求。

   江蘇一六儀器有限公司  專業(yè)鍍層測厚檢測   歡迎來電詳詢！ 

  X射線熒光光譜分析可以非破壞性同時完成組分和厚度測試，厚度的測量范圍視材料和元素而定，通常在1nm-50um之間。由于X光具有一定的波長，同事又有一定能量，因此，X射線熒光光譜儀有2種基本類型：波長色散型（WD）和能量色散性（ED）。X射線熒光光譜法分析鍍層與其常規(guī)定量分析法相比較，被測元素的特征X射線熒光強度不僅與鍍層中待測元素和基材的組成有關，而且與厚度直接相關。能量色散X射線熒光光譜分析相對其他分析方法，具有無需對樣品進行特別的化學處理、快速，方便，測量成本低等明顯優(yōu)勢，特別適合用于各類相關企業(yè)作為過程控制和檢測使用。是目前應用為廣泛，具有速度快、無損化以及可實現(xiàn)多鍍層同時分析等特點。